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    Narrow band gap, high photosensitivity a-SiGe:H films prepared by hot wire chemical vapor deposition (HW-CVD) method
    JADKAR, S. R ; SALI, J. V ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 52 (2002), Heft 6, S. 399-403
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Diamond nucleation and growth by hot-filament CVD with in situ DC glow discharge at a lower deposition pressure
    ZHANG, G. F ; BUCK, V
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 41 (1999), Heft 5, S. 261-265
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    High temperature phase and morphological changes of CVD-SiC films studied using in situ X-ray diffractometry
    KINGETSU, T ; ITO, K ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 36 (1998), Heft 5-6, S. 284-289
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    High-rate chemical vapor deposition of nanocrystalline silicon carbide films by radio frequency thermal plasma
    LIAO, F ; PARKA, S ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 57 (2003), Heft 13-14, S. 1982-1986
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    A study on surface morphologies of diamond films
    YAFEI, ZHANG ; FANGQING, ZHANG ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 20 (1994), Heft 1-2, S. 39-42
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Effect of oxygen pressure upon composition variation during chemical vapor deposition growth of lead titanate films from tetraethyl lead and titanium tetraisopropoxide
    LU SHENG, HONG ; CHUNG CHIEH, WEI
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 46 (2000), Heft 2-3, S. 149-153
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Hot-filament-enhanced chemical vapor deposition of silicon oxide films
    CHAVEZ, F ; BRAVO-GARCIA, Y. E ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 43 (2000), Heft 5-6, S. 324-328
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Pulsed plasma-induced alignment of carbon nanotubes
    VALENTINI, L ; ARMENTANO, I ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 57 (2003), Heft 22-23, S. 3699-3704
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Influence of hot filaments arranging on substrate temperature during HFCVD of diamond films
    SONG, G. H ; YOON, J. H ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 56 (2002), Heft 5, S. 832-837
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Plasma enhanced growth, composition and refractive index of silicon oxynitride films
    BOSE, M ; BOSE, D. N ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 52 (2002), Heft 6, S. 417-422
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    A comparative study of plasma enhanced chemically vapor deposited Si-O-H and si-N-C-H films using the environmentally benign precursor diethylsilane
    LEVY, R. A ; CHEN, L ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 54 (2002), Heft 2-3, S. 102-107
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Effect of ammonia plasma pretreatment on the plasma enhanced chemical vapor deposited silicon nitride films
    BOSE, M ; BASA, D. K ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 48 (2001), Heft 6, S. 336-341
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Low-temperature photodarkening of the AsxSe100-x system prepared by PECVD
    NAGELS, P ; TICHY, L ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 46 (2000), Heft 4, S. 234-238
    academicJournal
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    Surface-enhanced Raman analysis of diamond films using different metals
    HUANG, B. R ; CHEN, K. H ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 42 (2000), Heft 3, S. 162-165
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Plasma associated diamond nucleation on AlN in hot-filament chemical vapor deposition
    WANG, W. L ; LIAO, K. J ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 44 (2000), Heft 6, S. 336-340
    academicJournal
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    Highly oriented diamond deposited using a low pressure flat flame
    WOLDEN, C. A ; HAN, S. K ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 32 (1997), Heft 1, S. 9-12
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Effect of substrate surfaces and heat treatments on adhesion of Cu films
    CHOI, G. J ; CHO, Y. S
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 32 (1997), Heft 2-3, S. 185-189
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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