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    Low-temperature formation of crystalline Si:H/Ge:H heterostructures by plasma-enhanced CVD in combination with Ni-nanodots seeding nucleation
    Ikeda, Mitsuhisa ; Ohta, Akio ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 56 (2017-05-10), S. 06GG07
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    Evaluation method for grown-in dislocations in CVD single crystal diamond using plasma surface treatment
    Shikata, Shinichi ; Tsubouchi, Nobuteru
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 53 (2014-05-30), S. 068010-68010
    Online unknown
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    Triangular Structures on {111} Surfaces of Diamond Crystals Synthesized by the Hot-Filament CVD Method
    Hirabayashi, Keiji ; Kurihara, Noriko
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 29 (1990-10-01), S. L1901
    Online unknown
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    Growth Mode of {111} Surfaces of Diamond Crystals Synthesized by Hot-Filament CVD Method
    Hirabayashi, Keiji ; Kurihara, Noriko
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 29 (1990-10-01), S. L1862
    Online unknown
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    Solid-Phase Epitaxy of CVD Amorphous Si Film on Crystalline Si
    Tabe, Michiharu ; Kajiyama, Kenji ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 21 (1982-10-01), S. 1431-1431
    Online unknown
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    Growth of Microcrystalline SixGe1-x Alloy Films by Sputter-Assisted-Plasma CVD
    Nakashita, Toshio ; Iwaoka, Teiji ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 23 (1984-09-01), S. L674
    Online unknown
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    Elastic Double Structure of Amorphous Carbon Pillar Grown by Focused-Ion-Beam Chemical Vapor Deposition
    Fujita, Jun-ichi ; Okada, Satoshi ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 46 (2007-09-20), S. 6286-6289
    Online unknown
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    Development of Structural Analysis Method Based on Reverse Monte Carlo Simulation and Its Application to Catalytic Chemical Vapor Deposition Hydrogenated Amorphous Silicon
    Arai, T. ; Morimoto, Jun ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 43 (2004-10-08), S. 6873-6879
    Online unknown
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    Low-Resistivity Phosphorus-Doped Polycrystalline Silicon Thin Films Formed by Catalytic Chemical Vapor Deposition and Successive Rapid Thermal Annealing
    Masuda, Atsushi ; Morimoto, Rui ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 41 (2002-02-01), S. 501-501
    Online unknown
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    Characterization of Tensile Strained Si1-yCy Alloy Grown by Photo- and Plasma Chemical Vapor Deposition at Very Low Temperature
    Abe, Katsuya ; Konagai, Makoto ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 40 (2001-07-01), S. 4440-4440
    Online unknown
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    Crystallographic Structures and Parasitic Resistances of Self-Aligned Silicide TiSi2/Self-Aligned Nitrided Barrier Layer/Selective Chemical Vapor Deposited Aluminum in Fully Self-Aligned Metallization Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistor
    Matsuhashi, Hideki ; Tsubouchi, Kazuo ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 38 (1999-10-01), S. 5835-5835
    Online unknown
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    Microstructure of Polysilicon Films Grown by Catalytic Chemical Vapor Deposition Method
    He, An-Qiang ; Otsuka, Nobuo ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 37 (1998), S. 92-92
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    Structural Study of Chemical-Vapor-Deposited Diamond Surface by High-Resolution Electron Microscopy
    Jiang, Nan ; Sasaki, Takatomo ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 34 (1995-06-01), S. L782
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    Characterization of Si/SiGe Strained-Layer Superlattices Grown by an Ultrahigh Vacuum/Chemical Vapor Deposition Technique
    Tsai, Wen–Chung ; Jung, Tz–Guei ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 33 (1994-04-01), S. 1787-1787
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    Observations of the Initial Stage of Chemical-Vapor-Deposited Diamond Growth Using Transmission Electron Microscopy
    Ito, Toshimichi ; Hatta, Akimitsu ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 32 (1993-12-01), S. L1775
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    Epitaxially Grown Diamond (001) 2×1/1×2 Surface Investigated by Scanning Tunneling Microscopy in Air
    Tsuno, Takashi ; Imai, Takahiro ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 30 (1991-05-01), S. 1063-1063
    Online unknown
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    Critical Thickness of Strained Si on SiGe Bulk Virtual Substrate by Low-Pressure Chemical Vapor Deposition
    Mitani, Shinichi ; Igarashi, Masato ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 46 (2007-10-09), S. 6598-6600
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    Early stages of growth and crystal structure evolution of boron nitride thin films
    Garbrecht, Magnus ; Czigány, Zsolt ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 55 (2016-04-19), S. 05FD06
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    Influence of 4H-SiC Growth Conditions on Micropipe Dissociation
    Jikimoto, Tamotsu ; Tsuchida, Hidekazu ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 41 (2002-10-15), S. L1137- (3S.)
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    Large-Grain Polycrystalline Silicon Films Formed through Flash-Lamp-Induced Explosive Crystallization
    Sawada, Keisuke ; Usami, Noritaka ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 51 (2012-10-01), S. 10NB15
    Online unknown
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