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    Novel Exploration of Flat-Band Voltage Manipulation by Nitrogen Plasma Treatment for Advanced High-k/Metal-Gate CMOS Technology
    Yin, Huaxiang ; Yao, Jiaxin ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 89 (2019-04-23), S. 55-59
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    (Invited) TmSiO as a CMOS-Compatible High-k Dielectric
    Östling, Mikael ; Eugenio Dentoni Litta ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 72 (2016-05-04), S. 79-89
    Online unknown
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    (Invited) White-Light-Induced Annihilation of Percolation Paths in SiO2 and High-k Dielectrics - Prospect for Gate Oxide Reliability Rejuvenation and Optical-Enabled Functions in CMOS Integrated Circuits
    Kwang Sing Yew ; Kawashima, Tomohito ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 69 (2015-09-08), S. 169-181
    Online unknown
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    (Keynote) Atomic Layer Deposition Trends and Challenges in High-k/Metal Gate and Alternative Channel CMOS Processing
    Siddiqui, Shahab ; Dai, Min ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 60 (2014-02-27), S. 513-518
    Online unknown
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    (Invited) High-k Gate Dielectrics for Nanoscale CMOS Devices: Status, Challenges, and Future
    Wang, Xinlin ; Park, Dae-Gyu
    In: ECS Transactions, Jg. 28 (2010-04-16), S. 39-50
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    High K Dielectrics for Future CMOS Devices
    Robertson, John
    In: ECS Transactions, Jg. 19 (2009-05-15), S. 579-591
    Online unknown
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    (Invited) Current Status of High-k and Metal Gates in CMOS
    Chen, Peijun ; Jan Willem Maes ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 50 (2013-03-15), S. 207-210
    Online unknown
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    (Invited) The Role of Oxygen in the Development of Hf-Base High-k/Metal Gate Stacks for CMOS Technologies
    Cartier, Eduard A.
    In: ECS Transactions, Jg. 33 (2010-10-01), S. 83-94
    Online unknown
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    High-k Dielectrics and Interface Passivation for Ge and III/V Devices on Silicon for Advanced CMOS
    Houssa, Michel ; Dennis K.J. Lin ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 25 (2009-09-25), S. 51-65
    Online unknown
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    Revolutionary Nanoelectronic Devices and Processes for Post 32nm CMOS Era
    Nishi, Yoshio
    In: ECS Transactions, Jg. 19 (2009-05-15), S. 3-14
    Online unknown
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    (Invited) Voltage Ramp Stress Based Stress-And-Sense Test Method For Reliability Characterization of Hf-Base High-k/Metal Gate Stacks For CMOS Technologies
    Narayanan, Vijay ; Choi, Kisik ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 41 (2011-10-04), S. 337-348
    Online unknown
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    Recent Findings in Electrical Behavior of CMOS High-K Dielectric/Metal Gate Stacks
    Coignus, Jean ; Charbonnier, Mathieu ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 35 (2011-04-25), S. 773-804
    Online unknown
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    Engineering High Dielectric Constant Materials for Band-Edge CMOS Applications
    Brown, Stephen L. ; Narayanan, Vijay ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 16 (2008-10-03), S. 19-26
    Online unknown
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    In-Situ Studies of Interfacial Bonding of High-k Dielectrics for CMOS Beyond 22nm
    Wallace, Robert M.
    In: ECS Transactions, Jg. 16 (2008-10-03), S. 255-271
    Online unknown
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    High-k Gate-Dielectrics Based on Titanium-Aluminum for Sub-32 Nm CMOS Technology
    Wada, Ricardo ; Doi, Ioshiaki ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 14 (2008-08-22), S. 295-302
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    (ZrO2)x(La2O3)1-x Alloy as High-k Gate Dielectric for Advanced CMOS Devices
    Wu, Yung-Hsien ; Wu, Jia-Rong ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 33 (2010-10-01), S. 203-209
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    (Invited) Issues on Interfacial Oxide Layer (IL) in EOT Scaling of High-k/Metal Gate CMOS for 22nm Technology Node and Beyond
    Kirsch, Paul D. ; Chang Seo Park
    In: ECS Transactions, Jg. 33 (2010-10-01), S. 45-52
    Online unknown
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    Current Status and Perspective of High-k Gate Stack Materials Engineering for Further Scaled CMOS
    Toriumi, Akira
    In: ECS Transactions, Jg. 11 (2007-09-28), S. 3-16
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Recent Advances in Search for Suitable High-k/Metal Gate Solutions to Replace SiON/Poly-Silicon Gate Stacks in CMOS Devices for 45nm and Beyond Technologies
    Narayanan, Vijay ; Yingan, Wang ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 6 (2007-04-27), S. 287-294
    Online unknown
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    Advanced Gate Stacks with Fully Silicided (FUSI) Gates and High-k Dielectrics for Low Power CMOS
    Rosa María Luna-Sánchez ; González-Martínez, Ignacio
    In: ECS Transactions, Jg. 2 (2006-04-28), S. 301-309
    Online unknown
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