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    Low Temperature CVD of Thin, Amorphous Boron-Carbon Films for Neutron Detectors
    Henry, Anne ; Jensen, Jens ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 18 (2012-07-19), S. 221-224
    Online unknown
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    Production and Detection of H Atoms and Vibrationally Excited H2 Molecules in CVD Processes
    Umemoto, Hironobu
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 16 (2010-12-22), Heft 10-12, S. 275-290
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    a-SiC:H Films by Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD From Ethylsilane Precursors**
    Glebocki, Bartosz ; Wrobel, Aleksander M. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 19 (2013-08-07), S. 242-250
    Online unknown
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    Low Temperature Hetero-Epitaxial Growth of 3C-SiC Films on Si Utilizing Microwave Plasma CVD
    Zhang, Lei ; Zhuang, Hao ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 19 (2013-02-18), S. 29-37
    Online unknown
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    Thin a-SiC:H Films Formed by Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD using Dimethylsilane and Trimethylsilane Precursors
    Walkiewicz-Pietrzykowska, Agnieszka ; Wrobel, Aleksander M. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2014-04-29), S. 112-117
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    CVD Nanocasting Routes to Zeolite-Templated Carbons for Hydrogen Storage
    Mokaya, Robert ; Yang, Zhuxian ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 16 (2010-12-01), S. 322-328
    Online unknown
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    Boron-doped Homoepitaxial Diamond CVD from Microwave Plasma-Activated Ethanol/Trimethyl Borate/Hydrogen Mixtures
    Rakhimov, A. T. ; Khomich, Alexander V. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 18 (2012-09-01), S. 302-308
    Online unknown
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    Properties of Amorphous Hydrogenated Silicon Carbide (a-SiC:H) Films Formed by Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD From a Triethylsilane Precursor: Part 2
    Wrobel, Aleksander M. ; Walkiewicz-Pietrzykowska, Agnieszka ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 15 (2009-03-01), S. 47-52
    Online unknown
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    Investigation of Atmospheric Pressure CVD-Produced Aluminum Coatings for the Protection of Steel from Corrosion
    Levy, Roland A. ; Samuel S Newberg ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 16 (2010-08-27), S. 231-238
    Online unknown
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    Effect of Reduced Pressure on 3C-SiC Heteroepitaxial Growth on Si by CVD
    Okumura, Hajime ; Ishida, Yuuki ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 12 (2006-09-01), S. 495-501
    Online unknown
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    Silicon Carbonitride Films Produced by Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD Using a (Dimethylamino)dimethylsilane Precursor
    Wróbel, A. M. ; Kivitorma, M.P.M. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 11 (2005), S. 44-52
    Online unknown
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Amorphous Hydrogenated Silicon Carbide (a-SiC:H) Coatings Produced by Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD from Bis(dimethylsilyl)ethane - a Novel Single-Source Precursor
    Wrobel, Aleksander M. ; Glebocki, Bartosz ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 17 (2011-08-31), S. 186-190
    Online unknown
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    Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD of Silicon Carbonitride Films From a Tetramethyldisilazane Source. Part 2: Compositional and Structural Dependencies of Film Properties
    Wróbel, A. M. ; Blaszczyk-Lezak, Iwona
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 13 (2007-11-01), S. 601-608
    Online unknown
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    Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD of Silicon Carbonitride Films from a Tetramethyldisilazane Source. Part 1: Characterization of the Process and Structure of the Films
    Wróbel, A. M. ; Blaszczyk-Lezak, Iwona
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 13 (2007-11-01), S. 595-600
    Online unknown
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    Role of Hydrogen in the CVD of Wide Bandgap Nitride Semiconductors
    Pearton, Stephen J. ; Polyakov, Alexander Y.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 16 (2010-12-01), S. 266-274
    Online unknown
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Substrate-Dependant Ability of Titanium(IV) Oxide Photocatalytic Thin Films Prepared by Thermal CVD to Generate Hydrogen Gas from a Sacrificial Reaction
    Parkin, Ivan P. ; Mills, Andrew ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 16 (2010-12-01), S. 301-304
    Online unknown
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    Silicon Carbonitride (SiCN) Films by Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD from Tris(dimethylamino)silane as Novel Single-Source Precursor
    Glebocki, Bartosz ; Wrobel, Aleksander M. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 16 (2010-08-27), S. 211-215
    Online unknown
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    Fast Rate Growth of Organized Carbon Nanotubes by CVD Using Iron Pentacarbonyl as Gas-Phase Catalyst
    Chen, Wei-Rung ; Kuo, Dong-Hau ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 12 (2006-06-01), S. 395-402
    Online unknown
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Characterization and Properties of Ge1–x–Cx:H Compounds Obtained by X-ray CVD of Germane/Ethyne Systems: Effect of the Irradiation Dose
    Demaria, Chiara ; Benzi, Paola ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 12 (2006), S. 25-32
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    CVD of Ti3SiC2
    Crain, S. ; Pickering, E. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 6 (2000-11-01), S. 289-295
    Online unknown
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