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    Low Temperature CVD of Thin, Amorphous Boron-Carbon Films for Neutron Detectors
    Henry, Anne ; Jensen, Jens ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 18 (2012-07-19), S. 221-224
    Online unknown
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    a-SiC:H Films by Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD From Ethylsilane Precursors**
    Glebocki, Bartosz ; Wrobel, Aleksander M. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 19 (2013-08-07), S. 242-250
    Online unknown
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    Properties of Amorphous Hydrogenated Silicon Carbide (a-SiC:H) Films Formed by Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD From a Triethylsilane Precursor: Part 2
    Wrobel, Aleksander M. ; Walkiewicz-Pietrzykowska, Agnieszka ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 15 (2009-03-01), S. 47-52
    Online unknown
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    Effects of nitrogen incorporation on structure of a-C:H films deposited on polycarbonate by plasma CVD
    Cuong, N.K. ; Tahara, M. ; et al.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 193 (2005-04-01), S. 283-287
    Online unknown
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    Plasma CVD characterization of nanocarbon film growth
    Ustinov, A. O. ; Volkov, A. P. ; et al.
    In: Surface and Interface Analysis, Jg. 36 (2004-05-01), S. 481-484
    Online unknown
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    Structure-Property Relationships of Amorphous Hydrogenated Silicon-Carbon Films Produced by Atomic Hydrogen-Induced CVD from a Single-Source Precursor
    Wickramanayaka, Sunil ; Nakanishi, Yoichiro ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 6 (2000-11-01), S. 315-322
    Online unknown
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    Mechanism of the Initiation Step in Atomic Hydrogen-Induced CVD of Amorphous Hydrogenated Silicon–Carbon Films from Single-Source Precursors
    Walkiewicz-Pietrzykowska, Agnieszka ; Wrobel, Aleksander M.
    In: Chemical Vapor Deposition, 1998-07-01, S. 133-141
    Online unknown
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    Understanding the mechanism of CVD diamond
    Banholzer, William F.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 53 (1992-07-01), S. 1-12
    Online unknown
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    Effects of acetylene/ammonia mixtures on the properties of carbon films prepared by thermal chemical vapor deposition
    Shiue, Sham-Tsong ; Lai, Liang-Hsun
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 215 (2013), S. 161-169
    Online unknown
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    Plasma parameter investigation during plasma-enhanced chemical vapor deposition of silicon-containing diamond-like carbon films
    Mee, M. ; Grotjahn, T. ; et al.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 237 (2013-12-01), S. 126-134
    Online unknown
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    Effect of hydrogen flow on the properties of hydrogenated amorphous carbon films fabricated by electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition
    Dong, X. ; Leng, Yongxiang ; et al.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 206 (2011-11-01), S. 1007-1010
    Online unknown
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    Effect of hydrogen content in a-C:H coatings on their tribological behaviour at room temperature up to 150 °C
    Carvalho, N.J.M. ; Muchlado, M. ; et al.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 203 (2009-08-01), S. 3472-3479
    Online unknown
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    Atmospheric Pressure MOCVD of Thin Fe Films on Carbon Fibers
    Luo, Rui-Ying ; Luo, Jing-Hua ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 13 (2007-10-01), S. 574-580
    Online unknown
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    Fabrication of diamond films under high density helium plasma formed by electron cyclotron resonance
    Yuasa, Motokazu ; Jing Sheng Ma ; et al.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 49 (1991-12-01), S. 374-380
    Online unknown
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