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    Sub-bandgap optical absorption spectroscopy of hydrogenated microcrystalline silicon thin films prepared using hot-wire CVD (Cat-CVD) process
    GOKTAS, O ; ISIK, N ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 121-124
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Relation between pin a-Si:H solar-cell performances and intrinsic-layer properties prepared by Cat-CVD
    KITAMURA, T ; HONDA, K ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 264-267
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Potential of Cat-CVD deposited a-SiC:H as diffusion barrier layer on low-k HSQ films for ULSI
    SUNIL KUMAR, SINGH ; KUMBHAR, Alka A ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 318-321
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Low-temperature growth of Si-based organic-inorganic hybrid materials, Si-O-C and Si-N-C, by organic Cat-CVD
    NAKAYAMA, Hiroshi ; HATA, Tsuyoshi
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 190-194
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Expectation for Cat-CVD in ULSI technology and business trend
    AKASAKA, Yoichi
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 15-20
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    A layer-by-layer Cat-CVD of conformal and stoichiometric silicon nitride with in-situ H2 post-treatment
    KITAZOE, Makiko ; OSONO, Shuuji ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 160-163
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The mechanism of alumina formation from TMA and molecular oxygen using catalytic-CVD with an iridium catalyzer
    OGITA, Yoh-Ichiro ; TOMITA, Toshiyuki
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 35-38
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The formation of hetero-junction using carbon alloys by hot-wire CVD method
    NONOMURA, Shuichi ; YOSHIDA, Norimitsu ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 164-168
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Microstructural defect characterisation of a-Si:H deposited by low temperature HW-CVD on paper substrates
    BRITTON, D. T ; HITTING, M ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 79-83
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Internal stress in Cat-CVD microcrystalline Si:H thin films
    SAHU, Laxmi ; KALE, Nitin ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 117-120
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Effect of H2 dilution on Cat-CVD a-SiC:H films
    SWAIN, Bibhu P ; GUNDU RAO, T. K ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 173-176
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Beneficial effects of sputtered ZnO:Al protection layer on SnO2:F for high-deposition rate hot-wire CVD p-i-n solar cells
    FRANKEN, R. H ; VAN DER WERF, C. H. M ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 47-50
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Development of Cat-CVD apparatus for 1-m-size large-area deposition
    ISHIBASHI, Keiji ; KARASAWA, Minoru ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 58-62
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Coverage properties of silicon nitride film prepared by the Cat-CVD method
    OSONO, S ; UCHIYAMA, Y ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 165-169
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Characterization of Cat-CVD grown Si-C and Si-C-O dielectric films for ULSI applications
    TAKATSUJI, K ; KAWAKAMI, M ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 116-119
    Konferenz
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    Hf1-xSixOy dielectric films deposited by UV-photo-induced chemical vapour deposition (UV-CVD)
    LIU, M ; ZHU, L. Q ; et al.
    In: E-MRS IUMRS ICEM 2006 Spring Meeting, Nice, France - May 29-June 2, Jg. 253 (2007), Heft 19, S. 7869-7873
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Identification and gas phase kinetics of radical species in Cat-CVD processes of SiH4
    NOZAKI, Yoshitaka ; KITAZOE, Makiko ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 47-50
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    The mechanism of alumina formation from TMA and molecular oxygen using Catalytic-CVD with a tungsten catalyzer
    OGITA, Yoh-Ichiro ; TOMITA, Toshiyuki
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 39-42
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Plasma CVD on the inner surface of a microchannel
    KADOWAKI, M ; YOSHIZAWA, H ; et al.
    In: Proceedings of the joint meeting of the 7th APCPST (Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology) and the 17th SPSM (Symposium on Plasma Science for Materials), Fukuoka, Japan, June 29-July 2, 2004, Jg. 506-07 (2006), S. 123-127
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Low temperature amorphous and nanocrystalline silicon thin film transistors deposited by Hot-Wire CVD on glass substrate
    FONRODONA, M ; SOLER, D ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 303-306
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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