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    Liquid injection ALD and MOCVD of lanthanum aluminate using a bimetallic alkoxide precursor
    GASKELL, Jeffrey M ; JONES, Anthony C ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 39, S. 3854-3860
    Online academicJournal
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    La2S3 thin films from metal organic chemical vapor deposition of single-source precursor
    LU, TIAN ; TI, OUYANG ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 3, S. 272-277
    Online academicJournal
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    MOCVD of CeF3 films on Si(100) substrates: synthesis, characterization and luminescence spectroscopy
    LO NIGRO, Raffaella ; MALANDRINO, Graziella ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 9, S. 2816-2819
    Online academicJournal
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  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Atomic layer epitaxy growth of LaGaO3 thin films
    NIEMINEN, Minna ; LEHTO, Sari ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 12, S. 3148-3153
    Online academicJournal
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    LuBa2Cu3O7-x thin films prepared using MOCVD
    SAMOYLENKOV, S. V ; GORBENKO, O. YU ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 6 (1996), Heft 4, S. 623-627
    Online academicJournal
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  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Epitaxial stabilization of hexagonal RMnO3 (R = Eu-Dy) manganites
    BOSAK, A. A ; DUBOURDIEU, C ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 4, S. 800-801
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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sm 576 - 768
md 768 - 992
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