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    Key generation of algebraic-code cryptosystems
    Hwang, Tzonelih ; Sun, Hung-Min
    In: Computers & Mathematics with Applications, Jg. 27 (1994), Heft 2, S. 99-106
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    Non-conjugated electrolytes as thickness-insensitive interfacial layers for high-performance organic solar cells
    Xiang, Changhao ; Wang, Linqiao ; et al.
    In: Journal of Materials Chemistry A, Jg. 9 (2021), S. 22926-22933
    Online unknown
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    Sea-ice cover timing in the Pacific Arctic: The present and projections to mid-century by selected CMIP5 models
    Stabeno, Phyllis J. ; Wang, Muyin ; et al.
    In: Deep Sea Research Part II: Topical Studies in Oceanography, Jg. 152 (2018-06-01), S. 22-34
    Online unknown
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    Real-time reduced-order modeling of stochastic partial differential equations via time-dependent subspaces
    Patil, Prerna ; Babaee, Hessam
    In: Journal of Computational Physics, Jg. 415 (2020-08-01), S. 109511-109511
    Online unknown
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    EnergyPlus model-based predictive control within design–build–operate energy information modelling infrastructure
    Khee Poh Lam ; Karaguzel, Omer T. ; et al.
    In: Journal of Building Performance Simulation, Jg. 8 (2014-05-23), S. 121-134
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    Long-term marine mammal occurrence in the Distributed Biological Observatory 2010–2015
    Moore, Sue E. ; Stabeno, Phyllis J. ; et al.
    In: The Journal of the Acoustical Society of America, Jg. 144 (2018-09-01), S. 1957-1957
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    Electronic Equalization of Multikilometer 10-Gb/s Multimode Fiber Links: Mode-Coupling Effects
    Balemarthy, K. ; Polley, A. ; et al.
    In: Journal of Lightwave Technology, Jg. 24 (2006-12-01), S. 4885-4894
    Online unknown
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    Advancements of diffraction-based overlay metrology for double patterning
    Weher, Ulrich ; Li, Jie ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2011-03-17
    Online unknown
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    Advanced diffraction-based overlay for double patterning
    Hu, Jiangtao ; Smith, Nigel ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2010-03-11
    Online unknown
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Simultaneous overlay and CD measurement for double patterning: scatterometry and RCWA approach
    Rabello, Silvio J. ; Dasari, Prasad ; et al.
    In: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXIII, 2009-03-13
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    Diffraction-based overlay metrology for double patterning technologies
    Kritsun, Oleg ; Korlahalli, Rahul ; et al.
    In: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXIII, 2009-03-13
    Online unknown
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    Architecture and Experimental Evaluation of a 10Gb/s MLSD-Based Transceiver for Multimode Optical Fibers
    Agazzi, O.E. ; Hueda, Mario R. ; et al.
    In: 2008 IEEE International Conference on Communications, 2008
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    Modal noise investigation in multimode polymer waveguides
    Beals, J. ; Penty, Richard V. ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2007-11-19
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Theoretical and Experimental Demonstration of a State-of- the-Art Dark-Field Holographic Microscope for Advanced Semiconductor Metrology
    Tenner, Vasco T. ; A.J. den Boef ; et al.
    In: Imaging and Applied Optics 2019 (COSI, IS, MATH, pcAOP), 2019
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Micro-Optics for Photolithography
    Voelkel, Reinhard
    In: Optik & Photonik, Jg. 11 (2016-04-01), S. 45-48
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    Volltext (PDF)
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Accuracy of the Point-Source Model of a Multi-LED Array in High-Speed Visible Light Communication Channel Characterization
    Ding, Jupeng ; Xu, Zhengyuan ; et al.
    In: IEEE Photonics Journal, Jg. 7 (2015-08-01), S. 1-14
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    Low-EVM CMOS Transimpedance Amplifier for Intermediate Frequency over Fiber
    Martinez-Perez, Antonio D. ; Royo, Guillermo ; et al.
    In: 2018 IEEE International Symposium on Circuits and Systems (ISCAS), 2018-05-01
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    A 60 GHz bandwidth differential linear TIA in 130 nm sige:C BiCMOS with < 5.5 pA/√Hz
    Ko, Minsu ; Awny, A. ; et al.
    In: 2017 IEEE Bipolar/BiCMOS Circuits and Technology Meeting (BCTM), 2017-10-01
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    Effect of halogen-terminated additives on the performance and the nanostructure of all-polymer solar cells
    Kim, Hwajeong ; Lee, Sooyong ; et al.
    In: Journal of the Korean Physical Society, Jg. 66 (2015-02-01), S. 521-525
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    Micro-optics: Key enabling technology for photolithography
    Voelkel, Reinhard
    In: 2015 20th Microoptics Conference (MOC), 2015-10-01
    Online unknown
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