Zum Hauptinhalt springen
UB Hagen

Suchergebnisse

UB Katalog

Artikel & mehr
12 Treffer

Suchmaske

Suchtipp für den Bereich Artikel & mehr: Wörter werden automatisch mit UND verknüpft. Eine ODER-Verknüpfung erreicht man mit dem Zeichen "|", eine NICHT-Verknüpfung mit einem "-" (Minus) vor einem Wort. Anführungszeichen ermöglichen eine Phrasensuche.
Beispiele: (burg | schloss) -mittelalter, "berufliche bildung"

Das folgende Suchfeld wird hier nicht unterstützt: "Signatur / Strichcode".

Suchergebnisse einschränken oder erweitern

Aktive Suchfilter

Erscheinungszeitraum

Mehr Treffer

Weniger Treffer

Gefunden in

Schlagwort

Sprache

12 Treffer

Sortierung: 
  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    Electron beam / DUV intra-level mix-and-match lithography for random logic 0.25μm CMOS
    Jonckheere, Rik ; L. Van den hove ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 27 (1995-02-01), S. 231-234
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Complete x-ray lithography processing of an 8-level 0.4 micron CMOS test device
    Huber, H.-L. ; Lange, P. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 17 (1992-03-01), S. 153-156
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    DUV lithography for 0.35 μm CMOS processing
    Veerle Van Driessche ; Luc Van den hove ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 27 (1995-02-01), S. 243-246
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    SLM device for 193 nm lithographic applications
    Lauria, J. ; Albright, Ronald P. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 86 (2009-04-01), S. 569-572
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Economic production of submicron ASICs with laser beam direct write lithography
    Wijnaendts-van-Resandt, R. ; Schomburg, C. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 35 (1997-02-01), S. 509-512
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    New system for fast submicron optical direct writing
    Kück, H. ; Melcher, R. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 30 (1996), S. 123-127
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Experimental threshold voltage fluctuations of 30 nm-NMOS-transistors manufactured by a lithography independent structure definition process
    Fiedler, H. L. ; Kallis, K. T. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 86 (2009-04-01), S. 1057-1059
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Fully scaled 0.5 μm MOS cicuits by synchroton X-ray lithography: Resist systems and line width control
    Wilson, A. D. ; Crockatt, D. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 9 (1989-05-01), S. 97-100
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Fully scaled 0.5 μm MOS circuits by synchrotron radiation X-ray lithography: Devices fabrication and overlay evaluation
    Katcoff, D. ; Silverman, J. P. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 9 (1989-05-01), S. 101-104
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    A direct-write electron beam lithography process using multi-layer resists and its application to silicon-on-sapphire technology
    Mortimer, S.H. ; A G Brown ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 3 (1985-12-01), S. 443-450
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Minimizing linewidth roughness in Step and Flash Imprint Lithography
    Khusnatdinov, Niyaz ; LaBrake, Dwayne L. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 85 (2008-05-01), S. 856-860
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Piezoresistive sensors on AFM cantilevers with atomic resolution
    Ohlsson, O. ; Schelten, Jakob ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, 1998-03-01, S. 441-444
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -