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    Exploring Rule-Free Layout Decomposition via Deep Reinforcement Learning
    Jiang, B. ; Zang, X. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, Jg. 42 (2023-09-01), Heft 9, S. 3067-3077
    Online academicJournal
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    Wie komme ich dran?
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    Using machine learning etch models in OPC and ILT correction
    Huang, S. ; Hooker, Kevin ; et al.
    In: Design-Process-Technology Co-optimization XV, 2021-04-13
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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    Blind tracheal intubation through iLTS-D versus direct laryngoscopy by novice intubators during manual in-line neck stabilization: A randomized controlled trial
    Almog, Ofer ; Safadi, Anan ; et al.
    In: Journal of clinical anesthesia, Jg. 72 (2021-04-13)
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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    Evaluation of vaccination against infectious laryngotracheitis (ILT) with recombinant herpesvirus of turkey (rHVT-LT) and chicken embryo origin (CEO) vaccines applied alone or in combination
    Maekawa, Daniel ; Riblet, Sylva M. ; et al.
    In: Avian pathology : journal of the W.V.P.A, Jg. 48 (2019-07-16), Heft 6
    Online unknown
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    Volltext (PDF)
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    Comparison of Intubating Supraglottic Airways LMA Fastrach™ and ILTS-D® under Normal and Simulated Difficult Airways — a Manikin Study
    In: Annals of Critical Care, 2017-03-24, S. 12-19
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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    Fiberoptic-Guided and Blind Tracheal Intubation Through iLTS-D, Ambu® Auragain™, and I-Gel® Supraglottic Airway Devices: A Randomized Crossover Manikin Trial
    Matter, Ibrahim ; Manuel Ángel Gómez-Ríos ; et al.
    In: The Journal of emergency medicine, 2019-05-18
    Online unknown
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    ILT optimization of EUV masks for sub-7nm lithography
    Kuechler, Bernd ; Xiao, Guangming ; et al.
    In: 33rd European Mask and Lithography Conference, 2017-09-28
    Online unknown
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    Intubating laryngeal tube suction device (iLTS-D) requires ‘Mandheeral 1 and Mandheeral 2’ manoeuvres for optimum ventilation
    Kapoor, Dheeraj ; Sharma, Ankit ; et al.
    In: Southern African Journal of Anaesthesia and Analgesia, Jg. 24 (2018-02-15), S. 63-64
    Online unknown
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    Volltext (PDF)
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    Wie komme ich dran?
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    Quantitative evaluation of manufacturability and performance for ILT produced mask shapes using a single-objective function
    Kallingal, Chidam ; Wang, Wei-Long ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2015-03-18
    Online unknown
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    Inverse lithography (ILT) mask manufacturability for full-chip device
    Kim, Byung-Gook ; Irby, Dave ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2009-10-01
    Online unknown
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    Manufacturability of ILT patterns in low-NA 193nm environment
    Meusel, Ingo ; Kaiser, Dieter ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2009-03-13
    Online unknown
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    Validation of inverse lithography technology (ILT) and its adaptive SRAF at advanced technology nodes
    Cecil, Tom ; Chen, Dongxue ; et al.
    In: Optical Microlithography XXI, 2008-03-14
    Online unknown
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    Inverse lithography technology (ILT): keep the balance between SRAF and MRC at 45 and 32 nm
    Dam, Thuc ; Mihic, Kresimir ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2007-10-05
    Online unknown
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    Inverse lithography technology (ILT): a natural solution for model-based SRAF at 45nm and 32nm
    Pang, Linyong ; Abrams, Dan ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2007-05-03
    Online unknown
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    ILT for double exposure lithography with conventional and novel materials
    Milanfar, Peyman ; Borodovsky, Yan ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2007-03-16
    Online unknown
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Optimization from design rules, source and mask, to full chip with a single computational lithography framework: level-set-methods-based inverse lithography technology (ILT)
    Cecil, Tom ; Pang, Linyong ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2010-03-11
    Online unknown
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    Evaluation of lithographic benefits of using ILT techniques for 22nm-node
    Pang, Linyong ; Gleason, Bob ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2010-03-11
    Online unknown
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    Inverse Lithography Technology (ILT): what is the impact to the photomask industry?
    Abrams, Dan ; Liu, Yong ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2006-05-04
    Online unknown
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Pushing the lithography limit: applying inverse lithography technology (ILT) at the 65nm generation
    Guo, Eric ; Pang, Linyong ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2006-03-10
    Online unknown
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    Laser and e-beam mask-to-silicon with inverse lithography technology (ILT)
    Abrams, Dan ; Rissman, Paul ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2005-10-21
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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