Zum Hauptinhalt springen
UB Hagen

Suchergebnisse

UB Katalog

Artikel & mehr
6 Treffer

Suchmaske

Suchtipp für den Bereich Artikel & mehr: Wörter werden automatisch mit UND verknüpft. Eine ODER-Verknüpfung erreicht man mit dem Zeichen "|", eine NICHT-Verknüpfung mit einem "-" (Minus) vor einem Wort. Anführungszeichen ermöglichen eine Phrasensuche.
Beispiele: (burg | schloss) -mittelalter, "berufliche bildung"

Das folgende Suchfeld wird hier nicht unterstützt: "Signatur / Strichcode".

Suchergebnisse einschränken oder erweitern

Aktive Suchfilter

Erscheinungszeitraum

Mehr Treffer

Weniger Treffer

Gefunden in

Art der Quelle

Schlagwort

Publikation

Sprache

6 Treffer

Sortierung: 
  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    Pushing the Lithography Limit : Applying Inverse Lithography Technology (ILT) at the 65nm Generation
    HUNG, Chi-Yuan ; BIN, ZHANG ; et al.
    In: Optical microlithography XIX (21-24 February 2006, San Jose, California, USA), 2006
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Inverse lithography technology (ILT), What is the impact to photomask industry?
    LINYONG, PANG ; YONG, LIU ; et al.
    In: Photomask and next-generation lithography mask technology XIII (18-20 April, 2006, Yokohama, Japan), 2006
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Manufacturability study of masks created by inverse lithography technology (ILT)
    MARTIN, Patrick M ; PROGLER, C. J ; et al.
    In: 25th annual BACUS symposium on photomask technology (4-7 October, 2006, Monterey, California, USA), 2005
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Laser and E-beam mask-to-silicon with inverse lithography technology (ILT)
    LINYONG, PANG ; SHAMMA, Nader ; et al.
    In: 25th annual BACUS symposium on photomask technology (4-7 October, 2006, Monterey, California, USA), 2005
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    First 65nm tape-out using inverse lithography technology (ILT)
    HUNG, Chi-Yuan ; BIN, ZHANG ; et al.
    In: 25th annual BACUS symposium on photomask technology (4-7 October, 2006, Monterey, California, USA), 2005
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Enhancing DRAM printing process window by using inverse lithography technology (ILT)
    CHU, Chih-Wei ; TSAO, Becky ; et al.
    In: Optical microlithography XIX (21-24 February 2006, San Jose, California, USA), 2006
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -