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    Synthèse chimique et intégration de nanofils de ZnO pour le développement de nanogénérateurs piézoélectriques
    Lausecker, Clément ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM ) ; et al.
    2021
    Online unknown
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    Chemical synthesis and integration of ZnO nanowires for the development of piezoelectric nanogenerators ; Synthèse chimique et intégration de nanofils de ZnO pour le développement de nanogénérateurs piézoélectriques
    Lausecker, Clément ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM ) ; et al.
    In: https://theses.hal.science/tel-03712017 ; Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Grenoble Alpes [2020-.], 2021. Français. ⟨NNT : 2021GRALT052⟩, 2021
    Online Hochschulschrift
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    Lithographie à très haute résolution par l'auto-assemblage du PS-b-PDMS et les gravures plasma associées : application à la fabrication de matrices de nanorubans de graphène
    Arias zapata, Javier ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM ) ; et al.
    2018
    Online unknown
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    New perspectives of dimensional metrology using electron microscope imaging for process variability control in integrated circuit manufacturing ; Nouvelles perspectives de métrologie dimensionnelle par imagerie de microscope électronique pour le contrôle de la variabilité des procédés de fabrication des circuits intégrés
    Lakcher, Amine ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM ) ; et al.
    In: https://theses.hal.science/tel-01928076 ; Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Grenoble Alpes, 2018. Français. ⟨NNT : 2018GREAT052⟩, 2018
    Online Hochschulschrift
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    Advanced lithography by self-assembly of PS-b-PDMS and associated plasma ething : application to the fabrication of functional graphene nanoribbons arrays ; Lithographie à très haute résolution par l'auto-assemblage du PS-b-PDMS et les gravures plasma associées : application à la fabrication de matrices de nanorubans de graphène
    Arias Zapata, Javier ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM ) ; et al.
    In: https://theses.hal.science/tel-02281286 ; Micro and nanotechnologies/Microelectronics. Université Grenoble Alpes, 2018. English. ⟨NNT : 2018GREAT011⟩, 2018
    Online Hochschulschrift
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    Improvement of dimensional and alignment control methods for the double patterning lithography process for the 14 nm technology
    Carau, Damien ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; et al.
    2015
    Online unknown
    Zugriff:
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    Multibeam lithography for sub20nm technological nodes
    Jussot, Julien ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; et al.
    2015
    Online unknown
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    Improvement of dimensional and alignment control methods for the double patterning lithography process for the 14 nm technology ; Amélioration des méthodes de contrôle dimensionnel et d'alignement pour le procédé de lithographie à double patterning pour la technologie 14 nm
    Carau, Damien ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; et al.
    In: https://theses.hal.science/tel-01230982 ; Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Grenoble Alpes, 2015. Français. ⟨NNT : 2015GREAT072⟩, 2015
    Online Hochschulschrift
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    Multibeam lithography for sub20nm technological nodes ; Lithographie directe à faisceaux d’électrons multiples pour les nœuds technologiques sub-20nm
    Jussot, Julien ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; et al.
    In: https://theses.hal.science/tel-01235745 ; Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Grenoble Alpes, 2015. Français. ⟨NNT : 2015GREAT086⟩, 2015
    Online Hochschulschrift
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    Simultaneous determination of focal plane and energy exposition of optical microlithography equipment
    Spaziani, Nicolas ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; et al.
    2012
    Online unknown
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    Simultaneous determination of focal plane and energy exposition of optical microlithography equipment ; Détermination simultanée de la mise au point et de la dose d'un équipement de micro-lithographie optique
    Spaziani, Nicolas ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; et al.
    In: https://theses.hal.science/tel-01688605 ; Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université de Grenoble, 2012. Français. ⟨NNT : 2012GRENT125⟩, 2012
    Online Hochschulschrift
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    Lithographie de nouvelle génération par nanoimpression assistée par UV: étude et développement de matériaux et procédés pour l'application microélectronique
    Voisin, Pauline ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; et al.
    2007
    Online unknown
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    Influence des défauts enterrés dans les masques pour la lithographie Extreme Ultra Violet
    Farys, Vincent ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; et al.
    2006
    Online unknown
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    Design, setup and characterisation of an achromatic interferometer for the study of 193nm immersion lithography
    Charley, Anne-Laure ; Schiavone, Patrick ; et al.
    2006
    Online unknown
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    Etude et caractérisation des films minces lors du procédé de lithographie par nanoimpression
    Lazzarino, Frederic ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; et al.
    2005
    Online unknown
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    Next generation lithography by UV curing nanoimprint: study and development of materials and processes for the microelectronics industry application ; Lithographie de nouvelle génération par nanoimpression assistée par UV: étude et développement de matériaux et procédés pour l'application microélectronique
    Voisin, Pauline ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; et al.
    In: https://theses.hal.science/tel-00180907 ; Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2007. Français. ⟨NNT : ⟩, 2007
    Online Hochschulschrift
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    Influence of burried defects in extreme ultra violet lithography mask ; Influence des défauts enterrés dans les masques pour la lithographie Extreme Ultra Violet
    Farys, Vincent ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; et al.
    In: https://theses.hal.science/tel-00135902 ; Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2006. Français. ⟨NNT : ⟩, 2006
    Online Hochschulschrift
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    Design, setup and characterisation of an achromatic interferometer for the study of 193nm immersion lithography ; Conception, montage et caractérisation d'un interféromètre achromatique pour l'étude de la lithographie à immersion à 193nm
    Charley, Anne-Laure ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; et al.
    In: https://theses.hal.science/tel-00147894 ; Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Institut National Polytechnique de Grenoble - INPG, 2006. Français. ⟨NNT : ⟩, 2006
    Online Hochschulschrift
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