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  1. STEPANENKO, N ; KIM, Hyun-Woo ; et al.
    In: Advances in resist technology and processing XXIII (20-22 February 2006, San Jose, California, USA), 2006
    Konferenz
  2. KOCSIS, Michael ; VAN DEN HEUVEL, Dieter ; et al.
    In: Optical microlithography XIX (21-24 February 2006, San Jose, California, USA), 2006
    Konferenz
  3. YAYI, WEI ; STEPANENKO, N ; et al.
    In: Advances in resist technology and processing XXIII (20-22 February 2006, San Jose, California, USA), 2006
    Konferenz
  4. GRANDPIERRE, A. G ; SCHIWON, R ; et al.
    In: Metrology, inspection, and process control for microlithography XIX (San Jose CA, 7-10 March 2005), 2005
    Konferenz
  5. MARSCHNER, Thomas ; KRAMER, Uwe ; et al.
    In: Metrology, inspection, and process control for microlithography XIX (San Jose CA, 7-10 March 2005), 2005
    Konferenz
  6. SCHIWON, R ; GRANDPIERRE, A. G ; et al.
    In: Metrology, inspection, and process control for microlithography XIX (San Jose CA, 7-10 March 2005), 2005
    Konferenz
  7. LIM, Chinteong ; TEMCHENKO, Vlad ; et al.
    In: Data analysis and modeling for process control III (23 February 2006, San Jose, California, USA), 2006, S. 615503.1
    Konferenz
  8. BUBKE, Karsten ; SCZYRBA, Martin ; et al.
    In: Photomask technology 2006 (19-22 September, 2006, S. 634913.1
    Konferenz
  9. KRAMER, Uwe ; FLEISCHER, Goeran ; et al.
    In: Data analysis and modeling for process control III (23 February 2006, San Jose, California, USA), 2006, S. 615509.1
    Konferenz
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