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    Full-wafer fabrication by nanostencil lithography of micro/nanomechanical mass sensors monolithically integrated with CMOS.
    Arcamone, J ; M A F van ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 19 (2008-07-30), Heft 30, S. 05302-5302
    Online academicJournal
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    CMOS compatible strategy based on selective atomic layer deposition of a hard mask for transferring block copolymer lithography patterns.
    Gay, G ; Baron, T ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 21 (2010-10-29), Heft 43, S. 435301-435301
    Online academicJournal
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    Nanoimprint lithography 20 years on.
    Xia, Qiangfei ; R Fabian Pease
    In: Nanotechnology, Jg. 26 (2015-05-08), Heft 18, S. 1-1
    academicJournal
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    A multiscale simulation technique for molecular electronics: design of a directed self-assembled molecular n-bit shift register memory device.
    Lambropoulos, Nicholas A ; Reimers, Jeffrey R ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 24 (2013-12-20), Heft 50, S. 505202-505212
    Online academicJournal
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    Fabrication of graphene-based flexible devices utilizing a soft lithographic patterning method.
    Jung, Min Wook ; Myung, Sung ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 25 (2014-07-18), Heft 28, S. 1-1
    academicJournal
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    Nanoimprinting lithography of a two-layer phase mask for three-dimensional photonic structure holographic fabrications via single exposure.
    Xu, Di ; Kevin P Chen ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 22 (2011-01-21), Heft 3, S. 035303-35303
    Online academicJournal
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    Periodic arrays of deep nanopores made in silicon with reactive ion etching and deep UV lithography.
    Léon A Woldering ; Willem, R ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 19 (2008-04-09), Heft 14, S. 45304-45304
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
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