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    Electron beam / DUV intra-level mix-and-match lithography for random logic 0.25μm CMOS
    Jonckheere, Rik ; L. Van den hove ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 27 (1995-02-01), S. 231-234
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    Complete x-ray lithography processing of an 8-level 0.4 micron CMOS test device
    Huber, H.-L. ; Lange, P. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 17 (1992-03-01), S. 153-156
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    Fabrication of high performance 512Kb SRAMs in 0.25 μm CMOS technology using x-ray lithography
    Bright, A. ; Seeger, David E. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 23 (1994), S. 247-252
    Online unknown
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    Application of positive and negative tone x-ray resist for 0.5μm CMOS device fabrication
    Dammel, R. ; Pawlowski, G. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 11 (1990-04-01), S. 481-485
    Online unknown
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    CMOS compatible alignment marks for the SCALPEL proof of lithography tool
    Farrow, Reginald C. ; Felker, Joseph A. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 46 (1999-05-01), S. 263-266
    Online unknown
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    DUV lithography for 0.35 μm CMOS processing
    Veerle Van Driessche ; Luc Van den hove ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 27 (1995-02-01), S. 243-246
    Online unknown
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    A direct-write electron beam lithographic technique for the fabrication of CMOS-SOS devices with sub-micron gate dimensions
    Willis, H. ; S J Till ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 9 (1989-05-01), S. 225-229
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    In-plane distortion in silicon wafers induced by a submicron CMOS process
    Venkat Raman Nagaswami
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 9 (1989-05-01), S. 457-461
    Online unknown
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    Utilizing the superior etch stop quality of HfO2 in the front end of line wafer scale integration of silicon nanowire biosensors
    Hellström, Per-Erik ; Östling, Mikael ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 212 (2019-05-01), S. 13-20
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    Projection Mask-Less Lithography (PML2)
    Klikovits, Jan ; Szikszai, Laszlo ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 87 (2010-05-01), S. 1154-1158
    Online unknown
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    SLM device for 193 nm lithographic applications
    Lauria, J. ; Albright, Ronald P. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 86 (2009-04-01), S. 569-572
    Online unknown
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    Economic production of submicron ASICs with laser beam direct write lithography
    Wijnaendts-van-Resandt, R. ; Schomburg, C. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 35 (1997-02-01), S. 509-512
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    An overview of X-ray lithography
    Ohki, Shigehisa ; Ishihara, Sunao
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 30 (1996), S. 171-178
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    New system for fast submicron optical direct writing
    Kück, H. ; Melcher, R. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 30 (1996), S. 123-127
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    Projection mask-less lithography (PML2): First results from the multi beam blanking demonstrator
    Brandstaetter, Christoph ; Haugeneder, Ernst ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 83 (2006-04-01), S. 968-971
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    Experimental threshold voltage fluctuations of 30 nm-NMOS-transistors manufactured by a lithography independent structure definition process
    Fiedler, H. L. ; Kallis, K. T. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 86 (2009-04-01), S. 1057-1059
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    Electron beam / optical mixed lithography at half-micron ground rules
    Rudeck, Paul J. ; Wang, L. K. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 5 (1986-12-01), S. 133-140
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    Fully scaled 0.5 μm MOS cicuits by synchroton X-ray lithography: Resist systems and line width control
    Wilson, A. D. ; Crockatt, D. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 9 (1989-05-01), S. 97-100
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    Fully scaled 0.5 μm MOS circuits by synchrotron radiation X-ray lithography: Devices fabrication and overlay evaluation
    Katcoff, D. ; Silverman, J. P. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 9 (1989-05-01), S. 101-104
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    A direct-write electron beam lithography process using multi-layer resists and its application to silicon-on-sapphire technology
    Mortimer, S.H. ; A G Brown ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 3 (1985-12-01), S. 443-450
    Online unknown
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