Zum Hauptinhalt springen
UB Hagen

Suchergebnisse

UB Katalog

Artikel & mehr
305 Treffer

Suchmaske

Suchtipp für den Bereich Artikel & mehr: Wörter werden automatisch mit UND verknüpft. Eine ODER-Verknüpfung erreicht man mit dem Zeichen "|", eine NICHT-Verknüpfung mit einem "-" (Minus) vor einem Wort. Anführungszeichen ermöglichen eine Phrasensuche.
Beispiele: (burg | schloss) -mittelalter, "berufliche bildung"

Das folgende Suchfeld wird hier nicht unterstützt: "Signatur / Strichcode".

Suchergebnisse einschränken oder erweitern

Aktive Suchfilter

Erscheinungszeitraum

Mehr Treffer

Weniger Treffer

Gefunden in

Art der Quelle

Schlagwort

Verlag

Publikation

Sprache

Geographischer Bezug

305 Treffer

Sortierung: 
  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    Efficient ILT via Multi-level Lithography Simulation
    Sun, Shuyuan ; Yang, Fan ; et al.
    In: 2023 60th ACM/IEEE Design Automation Conference (DAC), 2023-07-09, S. 1-6
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Neural-ILT 2.0: Migrating ILT to Domain-Specific and Multitask-Enabled Neural Network
    Jiang, B. ; Liu, L. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, Jg. 41 (2022-08-01), Heft 8, S. 2671-2684
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Impacts Single Patterning ILT for Advanced Memory Challenging Design
    Xu, Camille ; Liu, Jingjing ; et al.
    In: 2021 China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC), 2021-03-14, S. 1-4
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    An efficient shift invariant rasterization algorithm for all-angle mask patterns in ILT
    Ding, Yixiao ; Chu, Chris ; et al.
    In: 2015 52nd ACM/EDAC/IEEE Design Automation Conference (DAC), 2015-06-01, S. 1-6
    Online Konferenz
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    An Approach to Extracting SRAF Rules from Inverse Lithography Technology Results
    Jin, Yao ; Li, Xuan ; et al.
    In: 2023 International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS), 2023-10-26, S. 1-4
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Exploring Rule-Free Layout Decomposition via Deep Reinforcement Learning
    Jiang, B. ; Zang, X. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, Jg. 42 (2023-09-01), Heft 9, S. 3067-3077
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Mask synthesis for 65nm SRAM manufacturing using gradient-based Inverse Lithography Technology (ILT)
    Xiong, Wei ; Zhang, Jinyu ; et al.
    In: 2008 9th International Conference on Solid-State and Integrated-Circuit Technology, 2008-10-01, S. 2276
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Curvilinear Mask Process Correction - status quo and outlook
    Bork, Ingo ; Mishra, Kushlendra ; et al.
    In: 2022 International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS), 2022-10-21, S. 1-7
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    3D Grayscale Lithography Based on Exposure Optimization
    Peng, Fei ; Yang, Zeyu ; et al.
    In: 2021 International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS), 2021-12-12, S. 1-3
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Mask Optimization based on artificial desired pattern
    Peng, Fei ; Gui, Chengqun ; et al.
    In: 2020 International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS), 2020-11-05, S. 1-4
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Fast and Accurate Machine Learning Inverse Lithography Using Physics Based Feature Maps and Specially Designed DCNN
    Shi, Xuelong ; Yan, Yan ; et al.
    In: 2020 International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS), 2020-11-05, S. 1-3
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Impacts Single Patterning ILT for Advanced Memory Challenging Design
    Zhu, Xudong ; Xu, Camille ; et al.
    In: 2021 China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC), 2021-03-14
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Dieser Titel kann aus lizenzrechtlichen Gründen nur im Campusnetz oder nach Anmeldung angezeigt werden!
    Konferenz
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Sub-Resolution Assist Feature Cleanup Based on Grayscale Map
    Gao, P. ; Su, X. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 32 (2019-11-01), Heft 4, S. 583-588
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Advanced ILT solutions to manufacture photonics designs
    Kobelkov, Sergey ; Tritchkov, Alexander ; et al.
    In: Optical Microlithography XXXIV, 2021-02-22
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Pushing the Lithography Limit : Applying Inverse Lithography Technology (ILT) at the 65nm Generation
    HUNG, Chi-Yuan ; BIN, ZHANG ; et al.
    In: Optical microlithography XIX (21-24 February 2006, San Jose, California, USA), 2006
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Inverse lithography technology (ILT), What is the impact to photomask industry?
    LINYONG, PANG ; YONG, LIU ; et al.
    In: Photomask and next-generation lithography mask technology XIII (18-20 April, 2006, Yokohama, Japan), 2006
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Manufacturability study of masks created by inverse lithography technology (ILT)
    MARTIN, Patrick M ; PROGLER, C. J ; et al.
    In: 25th annual BACUS symposium on photomask technology (4-7 October, 2006, Monterey, California, USA), 2005
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Laser and E-beam mask-to-silicon with inverse lithography technology (ILT)
    LINYONG, PANG ; SHAMMA, Nader ; et al.
    In: 25th annual BACUS symposium on photomask technology (4-7 October, 2006, Monterey, California, USA), 2005
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    First 65nm tape-out using inverse lithography technology (ILT)
    HUNG, Chi-Yuan ; BIN, ZHANG ; et al.
    In: 25th annual BACUS symposium on photomask technology (4-7 October, 2006, Monterey, California, USA), 2005
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -