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804 Treffer

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    Gate-tunable Hall sensors on large area CVD graphene protected by h-BN with 1D edge contacts.
    Karpiak, Bogdan ; Dankert, André ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 122 (2017-08-07), Heft 5, S. 54506-1- (4S.)
    Online academicJournal
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    Delivering new Liquid Metalorganic Precursors to Epi and CVD.
    WOELK, EGBERT ; LOO, ROGER
    In: Solid State Technology, Jg. 57 (2014-12-01), Heft 8, S. 37-40
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    Influence of thin platinum layer on the magnetic properties of multiple layers of CVD cobalt thin films.
    Deo, Nirmalendu ; Bain, Michael ; et al.
    In: Journal of Materials Science: Materials in Electronics, Jg. 23 (2012-10-01), Heft 10, S. 1881-1886
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
    View record at Springer (Volltext)
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    EFFECTS OF OPERATING CONDITIONS ON THE DEPOSITION OF GaAs IN A VERTICAL CVD REACTOR.
    Baek, Jae-Sang ; Boo, Jin-Hyo ; et al.
    In: Surface Review & Letters, Jg. 15 (2008-02-01), Heft 1/2, S. 111-116
    academicJournal
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    Micromorphologic assessment of CVD (chemical vapor deposition) and conventional diamond tips and their cutting effectiveness.
    Predebon, Juliane Ceolin ; Lima, Luciana Monti ; et al.
    In: Journal of Materials Science, Jg. 42 (2007-10-15), Heft 20, S. 8454-8460
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
    View record at Springer (Volltext)
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    Iron-cobalt alloy thin films with high saturation magnetizations grown by conformal metalorganic CVD.
    Zhang, Pengyi ; Babar, Shaista ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films, Jg. 33 (2015-11-01), Heft 6, S. 1-6
    academicJournal
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    Low-temperature growth of Si-based organic–inorganic hybrid materials, Si–O–C and Si–N–C, by organic Cat-CVD
    Nakayama, Hiroshi ; Hata, Tsuyoshi
    In: Thin Solid Films, Jg. 501 (2006-04-20), Heft 1/2, S. 190-194
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Control of Hydrogenation Patterning for CVD Diamond Substrates by AFM Local Anodic Oxidation.
    Manfredotti, C. ; Vittone, E. ; et al.
    In: Surface Engineering, Jg. 19 (2003-12-01), Heft 6, S. 441-446
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    CVD of Conducting Ultrathin Copper Films.
    Bahlawane, Naoufal ; Premkumar, Peter Antony ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 156 (2009-10-01), Heft 10, S. D452- (4S.)
    academicJournal
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    X-Ray Detection by Using CVD Single Crystal Diamond Detector.
    Tartoni, Nicola ; Angelone, Maurizio ; et al.
    In: IEEE Transactions on Nuclear Science, Jg. 56 (2009-06-02), Heft 3, S. 849-852
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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    COMPARATIVE ANALYSIS OF DIAMOND LIKE A CARBON FILMS.
    Laurikaitienė, Jurgita ; Adlien&3x0117;, Diana ; et al.
    In: International Conference: Radiation Interaction with Material & Its Uses in Technologies, 2006-09-01, S. 104-107
    Online Konferenz
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    Enhancement-Mode AlN/GaN HFETs Using Cat-CVD SiN.
    Higashiwaki, Masataka ; Mimura, Takashi ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 54 (2007-06-01), Heft 6, S. 1566-1570
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Electrical Properties and Thermal Stability of CVD HfOxNy Gate Dielectric With Poly-Si Gate Electrode.
    Choi, C. H. ; Jeon, T. S. ; et al.
    In: IEEE Electron Device Letters, Jg. 24 (2003-04-01), Heft 4, S. 215-217
    Online academicJournal
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    Volltext
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    Metallorganic CVD of High-Quality PZT Thin Films at Low Temperature with New Zr and Ti Precursors Having MMP Ligands.
    Zhao, Jin Shi ; Park, Dong-Yeon ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 151 (2004-01-05), Heft 5, S. C283- (9S.)
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    A Field Point Based Approach for Sensor Conditioning in MO-CVD Reactors.
    Andò, Bruno ; Baeri, Annalisa ; et al.
    In: IEEE Transactions on Instrumentation & Measurement, Jg. 52 (2003-06-01), Heft 3, S. 796-803
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Mechanistic studies of CVD metallization processes: reactions of rhodium and platinum β-diketonate complexes on copper surfaces.
    Crane, Elizabeth L. ; You, Yujian ; et al.
    In: Journal of the American Chemical Society, Jg. 122 (2000-04-12), Heft 14, S. 3422-3435
    academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Thin Film Transistors Using Wafer-Scale Low-Temperature MOCVD WSe.
    Gong, Yiyang ; Zhang, Xiaotian ; et al.
    In: Journal of Electronic Materials, Jg. 45 (2016-12-01), Heft 12, S. 6280-6284
    Online academicJournal
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    Volltext (PDF)
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    Growth of Hafnium Aluminate Thin Films by Direct Liquid Injection Metallorganic CVD Using Hf[N(C2H5)2]4 and Al(OiC3H7)3.
    Song, Moon-Kyun ; Kang, Sang-Woo ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 152 (2005-01-02), Heft 2, S. C108- (5S.)
    academicJournal
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    Improvements in Growth Behavior of CVD Ru Films on Film Substrates for Memory Capacitor Integration.
    Kang, Sang Yeol ; Hwang, Cheol Seong ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 152 (2005), Heft 1, S. C15- (5S.)
    academicJournal
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Characterization of HfO2 and HfOxNy Gate Dielectrics Grown by PE Metallorganic CVD with a TaN Gate Electrode.
    Choi, Kyu-Jeong ; Kim, Jeon-Ho ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 151 (2004-01-04), Heft 4, S. G262- (4S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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