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    Metal and oxide thin film MO CVD as a base for nanostructure and superlattice formation
    BAKOVETS, V. V ; GELFOND, N. V ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.561
    Konferenz
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    CVD copper thin film deposition using (a-methylstyrene)Cu(I)(hfac)
    ZHUANG, W ; CHARNESKI, L. J ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.553
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    (HFA)Cu 1,5-COD as the prospective precursor for CVD-technologies : The electronic structure, thermodynamical properties and process of formation of thin copper films
    LISKOVSKAYA, T. I ; BULUSHEVA, L. G ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.69
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Chemical vapour deposition of copper using copper(II) alkoxides
    BECKER, R ; WEISS, J ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.569
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Yttrium containing aluminide layers
    METZ, Ch ; WAHL, G ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.869
    Konferenz
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  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    MOCVD of Ag thin films
    PARAMONOV, S ; SAMOILENKOV, S ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.645
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Conductive Cu-TiO2 thin films obtained via MOCVD
    ALVAREZ Y. QUINTAVALLE, F ; BATTISTON, G. A ; et al.
    In: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 95 (2002), S. Pr4.147
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    New volatile polyazolylborates of copper(I) for MOCVD
    DROZDOV, A ; TROYANOV, S. I ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.585
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Investigation of the tantalum chlorination with hydrogen chloride for LPCVD tantalum elaboration
    LEVESQUE, A ; BOUTEVILLE, A
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.907
    Konferenz
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Evaluation of corrosion behaviour of tantalum coating obtained by low pressure chemical vapor deposition using electrochemical polarization
    LEVESQUE, A ; BOUTEVILLE, A
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.915
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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