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    Improvement in etch selectivity of SiO2 to CVD amorphous carbon mask in dual-frequency capacitively coupled C4F8/CH2F2/O2/Ar plasmas
    KWON, B. S ; KIM, J. S ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 518 (2010), Heft 22, S. 6451-6454
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Remote hydrogen microwave plasma chemical vapor deposition from methylsilane precursors. 1. Growth mechanism and chemical structure of deposited a-SiC:H films
    WROBEL, A. M ; WALKIEWICZ-PIETRZYKOWSKA, A ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 564 (2014), S. 222-231
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Kinetic considerations of gas-phase adsorption of growth species on the c-BN(100) surface
    KARLSSON, Johan ; LARSSON, Karin
    In: Thin solid films, Jg. 564 (2014), S. 246-252
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Evaluation of niobium dimethylamino-ethoxide for chemical vapour deposition of niobium oxide thin films
    DABIRIAN, Ali ; KUZMINYKH, Yury ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 571 (2014), S. 94-101
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Chemical vapor deposition of ruthenium-phosphorus alloy thin films: Using phosphine as the phosphorus source
    BOST, Daniel E ; EKERDT, John G
    In: Thin solid films, Jg. 558 (2014), S. 160-164
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Characteristics of carbon films prepared by thermal chemical vapor deposition using camphor
    LAI, Liang-Hsun ; YANG, Jia-Shin ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 556 (2014), S. 544-551
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Air-stable nanogranular Fe thin films formed by Chemical Vapor Deposition of triiron dodecacarbonyl as catalysts for carbon nanotube growth
    MERO, On ; SHAWAT, Efrat ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 550 (2014), S. 76-84
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Graphene production by dissociation of camphor molecules on nickel substrate
    RAVANI, Fotini ; PAPAGELIS, Konstantinos ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 527 (2013), S. 31-37
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Kinetic considerations of gas-phase abstraction of H and F from the c-BN(100) surface
    KARLSSON, Johan ; LARSSON, Karin
    In: Thin solid films, Jg. 548 (2013), S. 280-287
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    On the effect of water and oxygen in chemical vapor deposition of boron nitride
    PEDERSEN, Henrik ; CHUBAROV, Mikhail ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 520 (2012), Heft 18, S. 5889-5893
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Hard a-SiC:H films formed by remote hydrogen microwave plasma chemical vapor deposition using a novel single-source precursor
    WROBEL, A. M ; WALKIEWICZ-PIETRZYKOWSKA, A ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 520 (2012), Heft 24, S. 7100-7108
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Relaxation in bi-stable resistive states of chemical vapor deposition grown graphene
    TURPU, G. R ; IQBAL, M. W ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 522 (2012), S. 468-472
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Carbonized tantalum catalysts for catalytic chemical vapor deposition of silicon films
    SHIMIN, CHENG ; HUIPING, GAO ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 520 (2012), Heft 16, S. 5155-5160
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Role of argon in hot wire chemical vapor deposition of hydrogenated nanocrystalline silicon thin films
    BAKR, N. A ; FUNDE, A. M ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 519 (2011), Heft 11, S. 3501-3508
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    One step production of magnetic nanoparticle films by laser pyrolysis inside a chemical vapour deposition reactor
    DE CASTRO, V ; BENITO, G ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 519 (2011), Heft 22, S. 7677-7682
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Layer-by-layer growth of graphene layers on graphene substrates by chemical vapor deposition
    NEGISHI, Ryota ; HIRANO, Hiroki ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 519 (2011), Heft 19, S. 6447-6452
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Homoepitaxial 6H-SiC thin films by vapor―liquid―solid mechanism
    CHEN, Y. F ; LIU, X. Z ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 519 (2011), Heft 16, S. 5358-5363
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Chlorinated precursor study in low temperature chemical vapor deposition of 4H-SiC
    LEONE, S ; BEYER, F. C ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 519 (2011), Heft 10, S. 3074-3080
    academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Graphene-coated quartz crystal microbalance for detection of volatile organic compounds at room temperature
    VU VAN, QUANG ; VU NGOC, HUNG ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 568 (2014), S. 6-12
    academicJournal
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Influences of hydrocarbon radicals on the growth of Carbon nanotubes using heated-nozzle chemical vapour deposition
    KIM, S. M ; GANGLOFF, L
    In: Thin solid films, Jg. 519 (2010), Heft 2, S. 742-746
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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