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    Growth of InN thin films on different Si substrates at ambient temperature
    AMIRHOSEINY, Maryam ; HASSAN, Zainuriah ; et al.
    In: Microelectronics international, Jg. 30 (2013), Heft 2, S. 63-67
    Online academicJournal
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    Study of I-V characteristics of ZnO film on Si substrate with Ag buffer layer by C-AFM
    YIDONG, ZHANG ; WEIWEI, HE
    In: Microelectronics international, Jg. 29 (2012), Heft 1, S. 35-39
    Online academicJournal
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  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Fabrication of porous ZnO thin films using wet chemical etching with 0.5% HNO3
    ANG CHAI, IM ; LEONARD LU TZE, JIAN ; et al.
    In: Microelectronics international, Jg. 29 (2012), Heft 2, S. 96-100
    Online academicJournal
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  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Effect of sputtering time on physical and electrical properties of ZrOx thin film on Si
    TEDI, K ; CHEONG, K. Y ; et al.
    In: Microelectronics international, Jg. 28 (2011), Heft 3, S. 7-11
    Online academicJournal
    Zugriff:
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  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    DC magnetron sputter-deposited tungsten silicide films for microelectronic applications
    HOON, Jian-Wei ; CHAN, Kah-Yoong ; et al.
    In: Microelectronics international, Jg. 28 (2011), Heft 2, S. 30-33
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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