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    Effect of UV/VUV Enhanced RTP on Process Variation and Device Performance of Metal Gate/High-κ Gate Stacks for the Sub-90-nm CMOS Regime.
    Damjanovic, Daniel ; Bolla, Harish Kumar ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 18 (2005-02-01), Heft 1, S. 55-62
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Test Structure Design Considerations for RF-CV Measurements on Leaky Dielectrics.
    Schmitz, Jurriann ; Cubaynes, Florence N. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 17 (2004-05-01), Heft 2, S. 150-154
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Editorial Special Section on the 2011 International Conference on Microelectronic Test Structures.
    Selmi, Luca
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-11-01), Heft 4, S. 541-541
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Development of a Large-Scale TEG for Evaluation and Analysis of Yield and Variation.
    Yamamoto, Masaharu ; Endo, Hitoshi ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 17 (2004-05-01), Heft 2, S. 111-122
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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    Guest Editorial Special Section on the International Conference on Microelectronic Test Structures.
    Kasai, Naoiu
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 18 (2005-05-01), Heft 2, S. 237-237
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
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