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    academicJournal
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    Modeling of Front-Etched Micromachined Thermopile IR Detector by CMOS Technology
    DEHUI, XU ; BIN, XIONG ; et al.
    In: Journal of microelectromechanical systems, Jg. 19 (2010), Heft 6, S. 1331-1340
    Online academicJournal
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    Wie komme ich dran?
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    CMOS-MEMS Lateral Electrothermal Actuators
    GILGUNN, Peter J ; JINGWEI, LIU ; et al.
    In: Journal of microelectromechanical systems, Jg. 17 (2008), Heft 1, S. 103-114
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Process development for CMOS-MEMS sensors with robust electrically isolated bulk silicon microstructures
    HONGWEI, QU ; HUIKAI, XIE
    In: Journal of microelectromechanical systems, Jg. 16 (2007), Heft 5, S. 1152-1161
    Online academicJournal
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    A CMOS micromachined capacitive tactile sensor with high-frequency output
    KO, Cheng-Ting ; TSENG, Sheng-Hsiang ; et al.
    In: Journal of microelectromechanical systems, Jg. 15 (2006), Heft 6, S. 1708-1714
    Online academicJournal
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    Volltext
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    Mechanics of Out-of-Plane MEMS via Postbuckling: Model-Experiment Demonstration Using CMOS
    FACHIN, Fabio ; NIKLES, Stefan A ; et al.
    In: Journal of microelectromechanical systems, Jg. 21 (2012), Heft 3, S. 621-634
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Modeling and Characterization of CMOS-Fabricated Capacitive Micromachined Ultrasound Transducers
    DOODY, Christopher B ; XIAOYANG, CHENG ; et al.
    In: Journal of microelectromechanical systems, Jg. 20 (2011), Heft 1, S. 104-118
    Online academicJournal
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    Volltext
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    Uncooled low-cost thermal imager based on micromachined CMOS integrated sensor array
    SCHAUFELBÜHL, Andri ; SCHNEEBERGER, N ; et al.
    In: Journal of microelectromechanical systems, Jg. 10 (2001), Heft 4, S. 503-510
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    A micro active probe device compatible with SOI-CMOS technologies
    YI, Y.-W ; KONDOH, Y ; et al.
    In: Journal of microelectromechanical systems, Jg. 6 (1997), Heft 3, S. 242-248
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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    academicJournal
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    A CMOS Compatible Ultrasonic Transducer Fabricated With Deep Reactive Ion Etching.
    Rufer, Libor ; Domingues, Christian C. ; et al.
    In: Journal of Microelectromechanical Systems, Jg. 15 (2006-12-01), Heft 6, S. 1766-1776
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    A CMOS Micromachined Capacitive Tactile Sensor With High-Frequency Output.
    Ko, Cheng-Ting ; Tseng, Sheng-Hsiang ; et al.
    In: Journal of Microelectromechanical Systems, Jg. 15 (2006-12-01), Heft 6, S. 1708-1714
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Modeling of Front-Etched Micromachined Thermopile IR Detector by CMOS Technology.
    Xu, Dehui ; Xiong, Bin ; et al.
    In: Journal of Microelectromechanical Systems, Jg. 19 (2010-12-01), Heft 6, S. 1331-1340
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Surface Micromachined Combined Magnetometer/Accelerometer for Above-IC Integration.
    Elsayed, Mohannad Yomn ; Cicek, Paul-Vahe ; et al.
    In: Journal of Microelectromechanical Systems, Jg. 24 (2015-08-01), Heft 4, S. 1029-1037
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Fabrication techniques to realize CMOS-compatible microfluidic microchannels.
    Rasmussen, Angela ; Gaitan, Michael ; et al.
    In: Journal of Microelectromechanical Systems, Jg. 10 (2001-06-01), Heft 2, S. 286-297
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Process Development for CMOS-MEMS Sensors With Robust Electrically Isolated Bulk Silicon Microstructures.
    Qu, Hongwei ; Xie, Huikai
    In: Journal of Microelectromechanical Systems, Jg. 16 (2007-10-01), Heft 5, S. 1152-1161
    Online academicJournal
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    Volltext
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    High-Q Solenoid Inductors With a CMOS-Compatible Concave-Suspending MEMS Process.
    Gu, Lei ; Li, Xinxin
    In: Journal of Microelectromechanical Systems, Jg. 16 (2007-10-01), Heft 5, S. 1162-1172
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Resonant magnetic field sensor with frequency output
    SUNIER, Robert ; VANCURA, Tobias ; et al.
    In: Journal of microelectromechanical systems, Jg. 15 (2006), Heft 5, S. 1098-1107
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Porous Silicon in a Semiconductor Manufacturing Environment
    BOEHRINGER, Matthias ; ARTMANN, Hans ; et al.
    In: Journal of microelectromechanical systems, Jg. 21 (2012), Heft 6, S. 1375-1381
    Online academicJournal
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    Low-Stress CMOS-Compatible Silicon Carbide Surface-Micromachining Technology—Part I: Process Development and Characterization.
    Nabki, Frederic ; Dusatko, Tomas A. ; et al.
    In: Journal of Microelectromechanical Systems, Jg. 20 (2011-06-01), Heft 3, S. 720-729
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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