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    Loading of porous metal-organic open frameworks with organometallic CVD precursors : inclusion compounds of the type [LnM]a@MOF-5
    HERMES, Stephan ; SCHRÖDER, Felicitas ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 25, S. 2464-2472
    Online academicJournal
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    Fluorinated aminoalkoxide CuII complexes: new CVD precursors for deposition of copper metal
    YUN, CHI ; HSU, Peng-Fu ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 12, S. 3541-3550
    Online academicJournal
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    The deposition of thin films of CuME2 by CVD techniques (M = In, Ga and E = S, Se)
    PARK, Jin-Ho ; AFZAAL, Mohammad ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 8, S. 1942-1949
    Online academicJournal
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    Epitaxial electro-optical BaTiO3 films by single-source metal-organic chemical vapour deposition
    ZHAO, J ; FUFLYIGIN, V ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 7 (1997), Heft 6, S. 933-936
    Online academicJournal
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    Growth of nanowires of β-NaxV2O5 by metalorganic chemical vapor deposition
    SAHANA, M. B ; SHIVASHANKAR, S. A
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 9, S. 2254-2260
    Online academicJournal
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    Microstructure and properties of VO2 thin films deposited by MOCVD from vanadyl acetylacetonate
    SAHANA, M. B ; DHARMAPRAKASH, M. S ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 2, S. 333-338
    Online academicJournal
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    Deposition of ZrO2 and HfO2 thin films by liquid injection MOCVD and ALD using ansa-metallocene zirconium and hafnium precursors
    BLACK, Kate ; ASPINALL, Helen C ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 18 (2008), Heft 38, S. 4561-4571
    Online academicJournal
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    Synthesis of (Hf, Zr)B2-based heterostructures : hybrid substrate systems for low temperature Al-Ga-N integration with Si
    KOUVETAKIS, John ; YU JING, AN ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 18 (2008), Heft 40, S. 4775-4782
    Online academicJournal
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    Anisotropic oxygen diffusion properties in epitaxial thin films of La2NiΟ4+δ
    BURRIEL, Monica ; GARCIA, Gemma ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 18 (2008), Heft 4, S. 416-422
    Online academicJournal
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    Deposition of microcrystalline [Cu3(btc)2] and [Zn2(bdc)2(dabco)] at alumina and silica surfaces modified with patterned self assembled organic monolayers : evidence of surface selective and oriented growth
    ZACHER, Denise ; BAUNEMANN, Arne ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 17 (2007), Heft 27, S. 2785-2792
    Online academicJournal
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    Selective growth of IrO2 nanorods using metalorganic chemical vapor deposition
    GINNY, WANG ; TSAI, Dah-Shyang ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 8, S. 780-786
    Online academicJournal
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    Mixed amide-malonate compound of hafnium as a novel monomeric precursor for MOCVD of HfO2 thin films
    MILANOV, A ; BHAKTA, R ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 5, S. 437-440
    Online academicJournal
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    Liquid injection ALD and MOCVD of lanthanum aluminate using a bimetallic alkoxide precursor
    GASKELL, Jeffrey M ; JONES, Anthony C ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 39, S. 3854-3860
    Online academicJournal
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    La2S3 thin films from metal organic chemical vapor deposition of single-source precursor
    LU, TIAN ; TI, OUYANG ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 3, S. 272-277
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    tert-Butyl-substituted vanadocene, (C5H4CMe3)2V : a precursor for MOCVD of pure vanadium carbide
    DERRAZ, Y ; CYR-ATHIS, O ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 5 (1995), Heft 11, S. 1775-1778
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    Synthesis and structure of mixed isopropoxide-β-ketoester and β-ketoamide zirconium complexes: Potential precursors for MOCVD of ZrO2
    PATIL, Urmila ; WINTER, Manuela ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 9, S. 2177-2184
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    Growth control and characterization of vertically aligned IrO2 nanorods
    CHEN, Reui-San ; HUANG, Ying-Sheng ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 10, S. 2525-2529
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    Aerosol-assisted metallo-organic chemical vapour deposition of Bi2Se3 films using single-molecule precursors. The crystal structure of bismuth(III) dibutyldiselenocarbamate
    MONTEIRO, Olinda C ; TRINDADE, Tito ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 12, S. 3006-3010
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    Trialkylammonium salts of [M(SC{O}R)4]- (M = Ga3+ and In3+) as precursors for metal sulfide thin films
    DEIVARAJ, Theivanayagam C ; MING, LIN ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 5, S. 1149-1155
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    Deposition of thin films of cobalt oxides by MOCVD
    GULINO, Antonino ; FIORITO, Giuseppe ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 4, S. 861-865
    Online academicJournal
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