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    Iridium coatings grown by metal-organic chemical vapor deposition in a hot-wall CVD reactor
    MAURY, F ; SENOCQ, F
    In: Proceedings of the 29th International Conference on Metallurgic Coatings and Thin Films, San Diego, California, April 22-26, 2002, Jg. 163-64 (2003), S. 208-213
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    High-quality ZnO films prepared on Si wafers by low-pressure MO-CVD
    HAGA, K ; SUZUKI, T ; et al.
    In: Proceedings from the 12th International Conference on Thin Films, Bratislava, Slovakia, September 15-20, 2002, Jg. 433 (2003), Heft 1-2, S. 131-134
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Novel cyclopentadienyl based precursors for CVD of W containing films
    CORREIA ANACLETO, Antony ; BLASCO, Nicolas ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9120-9124
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Formation of silicon carbide and silicon carbonitride by RF-plasma CVD
    SACHDEV, H ; SCHEID, P
    In: Proceedings of Diamond 2000, the 11th European Conference on Diamond, Diamond-like Materials, Carbon Nanotubes, Nitrides and Silicon Carbide, Jg. 10 (2001), Heft 3-7, S. 1160-1164
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Study of CVD high-k gate oxides on high-mobility Ge and Ge/Si substrates
    VAN ELSHOCHT, S ; CAYMAX, M ; et al.
    In: Proceedings of the Fourth International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-4), Awaji Island, Hyogo, Japan, Jg. 508 (2006), Heft 1-2, S. 1-5
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    CVD-derived Hf-based High-k Gate Dielectrics
    GANG, HE ; BIN, DENG ; et al.
    In: Critical reviews in solid state and materials sciences, Jg. 38 (2013), Heft 4, S. 235-261
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    LiNb1-xTaxO3 films prepared by thermal plasma spray CVD
    YAMAMOTO, Hironori ; KULINICH, Sergei A ; et al.
    In: Proceedings of the 5th Asia-Pacific Conference on Plasma Science & Technology and the 13th Symposium on Plasma Science for Materials, Dalian, China, 10-13 September, 2000, Jg. 390 (2001), Heft 1-2, S. 1-6
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Growth of ZnOx:Al by high-throughput CVD at atmospheric pressure
    ILLIBERI, A ; SIMONS, P. J. P. M ; et al.
    In: Journal of crystal growth, Jg. 347 (2012), Heft 1, S. 56-61
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    CVD of ZrO2, Al2O3 and Y2O3 from metalorganic compounds in different reactors
    PULVER, M ; NEMETZ, W ; et al.
    In: Papers presented at the E-MRS Conference, Symposium B: Protective Coatings and Thin Films, Strasbourg, France, June 1-4, 1999, Jg. 125 (2000), Heft 1-3, S. 400-406
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Simple technique for measuring the filled volume of liquid or solid CVD precursor chemicals in bubblers
    BOUR, David ; ZHIHONG, YANG ; et al.
    In: Journal of crystal growth, Jg. 310 (2008), Heft 10, S. 2673-2677
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Numerical investigations of geometric effects on flow and thermal fields in a horizontal CVD reactor
    CHENG, T. S ; HSIAO, M. C
    In: Journal of crystal growth, Jg. 310 (2008), Heft 12, S. 3097-3106
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Progress in ion-transport inorganic membranes by novel chemical vapor deposition (CVD) techniques
    MENG, G. Y ; SONG, H. Z ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd Asian Conference on Chemical Vapour Deposition, Gyeongju, Korea, May 28-30, 2001, Jg. 409 (2002), Heft 1, S. 105-111
    Konferenz
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    Characteristics of c-axis oriented large grain ZnO films prepared by low-pressure MO-CVD method
    KASHIWABA, Y ; SUGAWARA, K ; et al.
    In: Proceedings of the 2nd International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics (TOEO-2), Tokyo, Japan, November 8-9, 2001, Jg. 411 (2002), Heft 1, S. 87-90
    Konferenz
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    Equilibrium analysis of zirconium carbide CVD growth
    YONG SUN, WON ; VARANASI, Venu G ; et al.
    In: Journal of crystal growth, Jg. 307 (2007), Heft 2, S. 302-308
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Influence of thin platinum layer on the magnetic properties of multiple layers of CVD cobalt thin films
    DEO, Nirmalendu ; BAIN, Michael F ; et al.
    In: Journal of materials science. Materials in electronics, Jg. 23 (2012), Heft 10, S. 1881-1886
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    HfO2 and Hf1-xSixO2 thin films grown by metal-organic CVD using tetrakis(diethylamido)hafnium
    OHSHITA, Yoshio ; OGURA, Atsushi ; et al.
    In: Special issue on high-permittivity dielectric oxides, Jg. 12 (2006), Heft 2-3, S. 130-135
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Effect of oxidant on downstream microwave plasma enhanced CVD of hafnium oxynitride films
    QIAN, LUO ; HESS, Dennis W ; et al.
    In: Special issue on high-permittivity dielectric oxides, Jg. 12 (2006), Heft 2-3, S. 181-186
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Deposition of Ni and Pd sulfide thin films via aerosol-assisted CVD
    O'BRIEN, Paul ; WATERS, John
    In: Special issue on aerosol-assisted CVD, Jg. 12 (2006), Heft 10, S. 620-626
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Simple CVD routes towards infiltration of mesoporous TiO2
    WATERS, John P ; SMYTH-BOYLE, David ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 5, S. 254-260
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
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    Characterization of a TiO2 photocatalyst film deposited by CVD and its photocatalytic activity
    JUNG, Sang-Chul ; KIM, Byung-Hoon ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 3, S. 137-141
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
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