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    Gas-phase loading of [Zn4O(btb)2] (MOF-177) with organometallic CVD-precursors : inclusion compounds of the type [LnM]a@MOF-177 and the formation of Cu and Pd nanoparticles inside MOF-177f
    MÜLLER, Maike ; LEBEDEV, Oleg I ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 18 (2008), Heft 43, S. 5274-5281
    Online academicJournal
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    Deposition of Ru and RuO2 thin films employing dicarbonyl bis-diketonate ruthenium complexes as CVD source reagents
    LAI, Ying-Hui ; CHEN, Yao-Lun ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 8, S. 1999-2006
    Online academicJournal
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    Fluorinated aminoalkoxide CuII complexes: new CVD precursors for deposition of copper metal
    YUN, CHI ; HSU, Peng-Fu ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 12, S. 3541-3550
    Online academicJournal
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    Deposition of osmium thin films using pyrazolate complexes as CVD source reagents
    YUN, CHI ; YU, Huan-Li ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 5, S. 1363-1369
    Online academicJournal
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    Chemical vapour deposition of copper or silver from the precursors [M(hfac)(C≡NMe)][M=Cu, Ag; hfac=CF3C(O)CHC(O)CF3]
    YUAN, C ; DRYDEN, N. H ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 5 (1995), Heft 2, S. 303-307
    Online academicJournal
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    Trialkylammonium salts of [M(SC{O}R)4]- (M = Ga3+ and In3+) as precursors for metal sulfide thin films
    DEIVARAJ, Theivanayagam C ; MING, LIN ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 5, S. 1149-1155
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    Aerosol-assisted chemical vapour deposition of silver films from adducts of functionalised silver carboxylates
    EDWARDS, Dennis A ; MAHON, Mary F ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 3, S. 563-570
    Online academicJournal
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    The X-ray single crystal structure of [Me2In(acac)]2 and its use as a single-source precursor for the deposition of indium oxide thin films
    PARK, Jin-Ho ; HORLEY, Graeme A ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 9, S. 2346-2349
    Online academicJournal
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    Crystal structure of a strontium-tantalum and a magnesium-niobium heterometal alkoxide : precursors for the MOCVD of ferroelectric oxides
    JONES, Anthony C ; DAVIES, Hywel O ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 2, S. 544-548
    Online academicJournal
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    Aerosol-assisted chemical vapour deposition (AACVD) of silver films from triphenylphosphine adducts of silver β-diketonates and β-diketoiminates, including the structure of [Ag(hfac)(PPh3)]
    EDWARDS, D. A ; HARKER, R. M ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 9 (1999), Heft 8, S. 1771-1780
    Online academicJournal
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    Synthesis of aluminium and gallium fluoroalkoxide compounds and the low pressure metal-organic chemical vapor deposition of gallium oxide films
    MIINEA, L ; SEIGI, SUH ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 9 (1999), Heft 4, S. 929-935
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    Deposition of CdSe thin films using a novel single-source precursor; [MeCd{(SePiPr2)2N}]2
    AFZAAL, Mohammmad ; CROUCH, David ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 4, S. 639-640
    Online academicJournal
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