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    Unique precursor delivery and control afforded by low-pressure pulsed-CVD process with ultrasonic atomization
    KRUMDIECK, S ; SBAIZERO, O ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.1161
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Composition, morphology and particle size control in nanocrystalline iron oxide films grown by single-source CVD
    MATHUR, S ; VEITH, M ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.487
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    CVD deposition of cobalt oxide (Co3O4) from Co(acac)2
    RIVERA, E. Fischer ; ATAKAN, B ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.629
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    CVD growth of silicon films at high rates
    HOFSTÄTTER, M ; ATAKAN, B ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.293
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Nanoscale cobalt oxides thin films obtained by CVD and sol-gel routes
    ARMELAO, L ; BARRECA, D ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.437
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    High-quality GaN on intentionally roughened c-sapphire
    GOLAN, Y ; FINI, P ; et al.
    In: EPJ. Applied physics (Print), Jg. 22 (2003), Heft 1, S. 11-14
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Chemical vapour deposition of copper using copper(II) alkoxides
    BECKER, R ; WEISS, J ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.569
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Multiscale approach to material synthesis by gas phase deposition
    MASI, M
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.117
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Growth of InN whiskers from single source precursor
    DEVI, A ; PARALA, H ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.577
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Synthesis of hexagonal boron nitride thin films by a plasma assisted chemical vapor deposition method
    THEVENIN, P ; SOLTANI, A ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.803
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    RMPECVD of silica films with a high microwave power (1600 W) parametric studies
    TRISTANT, P ; DESMAISON, J ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.771
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Properties of thin AlN films prepared by PECVD and rapid thermal processes
    BESHKOV, G. D ; GEORGIEV, S. S ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.287
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Low pressure chemical vapor deposition of CuxS
    MEESTER, B ; REIJNEN, L ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.239
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    GaN heteroepitaxy by remote plasma MOCVD: Real time monitoring by laser reflectance interferometry
    LOSURDO, M ; GRIMALDI, A ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.1175
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Comparative study of atomic layer deposition and low-pressure MOCVD of copper sulfide thin films
    MEESTER, B ; REIJNEN, L ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.1147
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Cobalt oxide thin films prepared by metalorganic chemical vapor deposition from cobalt acetylacetonate
    MANE, A. U ; SHALINI, K ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.637
    Konferenz
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    A study of morphology and texture of LPCVD germanium-silicon films
    KOVALGIN, A ; HOLLEMAN, J
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.47
    Konferenz
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Substrate dependent growth of highly conductive RuO2 films
    FRÖHLICH, K ; MACHAJDIK, D ; et al.
    In: Journal de physique. IV, Jg. 91 (2001), S. Pr11.77
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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