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    Linear extended ArcJet-CVD : a new PECVD approach for continuous wide area coating under atmospheric pressure
    HOPFE, Volkmar ; ROGLER, Daniela ; et al.
    In: Atmospheric pressure plasma enhanced CVD (AP-PECVD), Jg. 11 (2005), Heft 11-12, S. 510-522
    Online academicJournal
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    Thick silicon carbide homoepitaxial layers grown by CVD techniques
    HENRY, Anne ; UL HASSAN, Jawad ; et al.
    In: Special issue on silicon carbide CVD for electronic device applications, Jg. 12 (2006), Heft 8-9, S. 475-482
    academicJournal
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    Effect of oxidant on downstream microwave plasma enhanced CVD of hafnium oxynitride films
    QIAN, LUO ; HESS, Dennis W ; et al.
    In: Special issue on high-permittivity dielectric oxides, Jg. 12 (2006), Heft 2-3, S. 181-186
    academicJournal
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    Cylindrical metal wire surface coating with multiwalled carbon nanotubes by an atmospheric-pressure microplasma CVD technique
    SHIMIZU, Yoshiki ; SASAKI, Takeshi ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 5, S. 244-249
    Online academicJournal
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    CVD with tri-nbutylphosphine silver(I) complexes : Mass spectrometric investigations and depositions
    HAASE, Thomas ; KOHSE-HÖINGHAUS, Katharina ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 4, S. 195-205
    Online academicJournal
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    Silicon carbonitride films produced by remote hydrogen microwave plasma CVD using a (dimethylamino)dimethylsilane precursor
    BLASZCZYK-LEZAK, Iwona ; WROBEL, Aleksander M ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 1, S. 44-52
    Online academicJournal
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    Synthesis and characterization of tris(β-ketoiminato)ruthenium(III) complexes: Potential precursors for CVD of Ru and RuO2 thin films
    CHOU, Tsung-Yi ; LAI, Ying-Hui ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 10 (2004), Heft 3, S. 149-158
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    The properties of Si1-xGex nanodot arrays prepared by plasma-enhanced CVD on porous alumina templates
    HAILONG, HU ; DEYAN, HE
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 12 (2006), Heft 12, S. 751-754
    academicJournal
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    Characterization and properties of Ge1-x-Cx:H compounds obtained by X-ray CVD of germane/ethyne systems : Effect of the irradiation dose
    BENZI, Paola ; BOTTIZZO, Elena ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 12 (2006), Heft 1, S. 25-32
    academicJournal
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    Structural characterization of cobalt thin films grown by metal-organic CVD
    CHIONCEL, Mariana F ; HAYCOCK, Peter W
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 5, S. 235-243
    Online academicJournal
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    Mechanism of ni film CVD with a Ni(Ktfaa)2 precursor on a silicon substrate
    BAKOVETS, Vladimir V ; MITKIN, Valentin N ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 8-9, S. 368-374
    Online academicJournal
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    Mechanism of Ni film CVD with a Ni(ktfaa)2 precursor on a copper substrate
    BAKOVETS, Vladimir V ; MITKIN, Valentin N ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 2, S. 112-117
    Online academicJournal
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    Phase selective deposition and microstructure control in iron oxide films obtained by single-source CVD
    MATHUR, Sanjay ; VEITH, Michael ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 8 (2002), Heft 6, S. 277-283
    Online academicJournal
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    CVD of nanophasic (Zn, Cd)S thin films: From multi-layers to solid solutions
    BARRECA, Davide ; GASPAROTTO, Alberto ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 10 (2004), Heft 4, S. 229-236
    Online academicJournal
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    Single-source CVD of zinc sulfide-based thin films from zinc bis(O-ethylxanthate)
    BARRECA, Davide ; TONDELLO, Eugenio ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 9 (2003), Heft 2, S. 93-98
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    Metal-organic CVD of conductive and crystalline hafnium nitride films
    KIM, Younsoo ; BAUNEMANN, Arne ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 6-7, S. 294-297
    Online academicJournal
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    Growth of GaN nanorods via au catalyst-assisted CVD
    ZHOU, YU ; ZHIMEI, YANG ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 10, S. 433-436
    Online academicJournal
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    CVD of thin titanium dioxide films using hexanuclear titanium oxo carboxylate isopropoxides
    PISZCZEK, Piotr ; RICHERL, Monika ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 10, S. 399-403
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    Growth of IrO2 films and nanorods by means of CVD: An example of compositional and morphological control of nanostructures
    CHEN, Reui-San ; CHEN, Yi-Sin ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 9 (2003), Heft 6, S. 301-305
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    Growth characteristics and texture of cubic boron nitride films produced by CVD
    XIN, JIANG ; HELMING, Kurt ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 8 (2002), Heft 6, S. 262-265
    Online academicJournal
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