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    (Invited) Low Frequency Noise Performance of State-of-the-Art and Emerging CMOS Devices : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Claeys, C. ; Aoulaiche, M. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 567-580
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    A Compact CMOS 3-D Magnetic Field Sensor : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Wang, G. ; Misra, D.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 543-558
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Recent Progress of Ge Technology for a Post-Si CMOS : Dielectrics in nanosystems -and- graphene, Ge/III-V, nanowires and emerging materials for post-CMOS applications
    Toriumi, A. ; Lee, C. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 35 (2011), Heft 3, S. 443-456
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Prospective and Critical Issues of III-V/Ge CMOS on Si Platform : Dielectrics in nanosystems -and- graphene, Ge/III-V, nanowires and emerging materials for post-CMOS applications
    Takagi, S. ; Takenaka, M.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 35 (2011), Heft 3, S. 279-298
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    CMOS Scaling with III-V Channels for Improved Performance and Low Power : Dielectrics in nanosystems -and- graphene, Ge/III-V, nanowires and emerging materials for post-CMOS applications
    Hill, R.J. ; Oh, J. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 35 (2011), Heft 3, S. 335-344
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Advanced FinFET Technologies: Extension Doping, V~t~h Controllable CMOS Inverters and SRAM : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability, and manufacturing
    Liu, Y. ; Endo, K. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 28 (2010), Heft 2, S. 385-402
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    XPS Study on Chemical Bonding States of High-k Gate Stacks for Advanced CMOS : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability, and manufacturing
    Nohira, H.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 28 (2010), Heft 2, S. 129-138
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    High-k Gate Dielectrics for Nanoscale CMOS Devices: Status, Challenges, and Future : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability, and manufacturing
    Park, D. ; Wang, X.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 28 (2010), Heft 2, S. 39-50
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Changing Front-End Dielectric Requirements for End-of-the-Roadmap CMOS and Beyond : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability, and manufacturing
    Register, L.F. ; Basu, D. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 28 (2010), Heft 2, S. 3-18
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Advanced Gate Stacks with Fully Silicided Gates and High-k Dielectrics for Low Power CMOS : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability, and manufacturing
    Ogura, T. ; Saitoh, M. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 2 (2006), Heft 1, S. 301-310
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Interface engineering routes for a future cmos ge-based technology
    Mitrovic, I. Z. ; Althobaiti, M. ; et al.
    In: ECS Transactions, 2014, S. 73-88
    Online unknown
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    (Invited) Nano-Derived, Micro-Chemical Sensors for High-Temperature Applications : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Sabolsky, E.M. ; Wildfire, C. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 495-506
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    (Invited) Heterogeneously Integrated III-V on Silicon for Future Nanoelectronics : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Hudait, M.K.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 581-594
    Konferenz
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Electrical Properties of Silicon Nitride Using High Density and Low Plasma Damage PECVD Formed at 400^oC : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Nakao, Y. ; Teramoto, A. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 421-428
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    (Invited) Heterogeneous Integration of Ultra-Thin Sheets of Alternative Materials onto Silicon Substrates : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Levin, S.M. ; Kuang, J. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 559-566
    Konferenz
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Polysilicon Nanowire Sensor Devices Based on High-k Dielectric Membrane for pH Sensing and DNA Detection : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Wu, C. ; Hsu, P. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 537-542
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    New Metal Organic Gas Supply System by Using an Advanced Flow Control System : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Yamaji, M. ; Yamashita, S. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 429-436
    Konferenz
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    Coaxial-Structured Solar Cells with Silicon Nanostructures : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Li, H. ; Chen, K. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 529-536
    Konferenz
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Formation of CoSi2/CoSixNy Nanocrystals for Nonvolatile Memory Application : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Huang, J. ; Chang, T. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 361-370
    Konferenz
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Forming-Free Resistive Switching Memory Characteristics Using IrO~x/GdO~x/W Cross-Bar Structure : Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability and manufacturing; -and- Tutorials in nanotechnology : more than Moore - beyond CMOS emerging materials and devices
    Jana, D. ; Prakash, A. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 45 (2012), Heft 3, S. 349-354
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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