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    Homoepitaxial growth of diamond thin films by electron cyclotron-resonance microwave plasma chemical-vapor-deposition apparatus with CO/H2 gaseous source
    KOMORI, M ; MAKI, T ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 62 (1993), Heft 6, S. 582-584
    Online academicJournal
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    Intermittent ultraviolet irradiation for silicon selective epitaxial growth
    MIYATA, N ; YAMAZAKI, T ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 62 (1993), Heft 6, S. 588-590
    Online academicJournal
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    Selective Si epitaxial growth by plasma-enhanced chemical vapor deposition at very low temperature
    BAERT, K ; DESCHEPPER, P ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 60 (1992), Heft 4, S. 442-444
    Online academicJournal
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    Effect of silicon source gas on silicon-germanium chemical vapor deposition kinetics at atmospheric pressure
    KAMINS, T. I ; MEYER, D. J
    In: Applied physics letters, Jg. 61 (1992), Heft 1, S. 90-92
    Online academicJournal
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    Epitaxial silicon deposition at 300°C with remote plasma processing using SiH4/H2 mixtures
    HATTANGADY, S. V ; POSTHILL, J. B ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 59 (1991), Heft 3, S. 339-341
    Online academicJournal
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    Diamond deposition from CF4-H2 mixed gas by microwave plasma
    KADONO, M ; INOUE, T ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 61 (1992), Heft 7, S. 772-773
    Online academicJournal
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    Low-temperature deposition of diamond films for optical coatings
    ONG, T. P ; CHANG, R. P. H
    In: Applied physics letters, Jg. 55 (1989), Heft 20, S. 2063-2065
    Online academicJournal
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    Windowless helium lamp assisted chemical vapor deposition of hydrogenated amorphous silicon
    ZARNANI, H ; YU, Z. Q ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 53 (1988), Heft 14, S. 1314-1316
    Online academicJournal
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    Silicon epitaxial growth on (100) patterned oxide wafers at 800°C by ultralow-pressure chemical vapor deposition
    TRI-RUNG YEW, K ; REIF, R
    In: Applied physics letters, Jg. 52 (1988), Heft 21, S. 1797-1799
    Online academicJournal
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    Low-temperature epitaxial growth of silicon by low-pressure chemical vapor deposition
    MEAKIN, D ; STOBBS, M ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 52 (1988), Heft 13, S. 1053-1055
    Online academicJournal
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    Evidence of a photon effect during the visible laser-assisted deposition of polycrystalline silicon from silane
    AUVERT, G ; TONNEAU, D ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 52 (1988), Heft 13, S. 1062-1064
    Online academicJournal
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    Synthesis of diamond films in a rf induction thermal plasma
    MATSUMOTO, S ; HINO, M ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 51 (1987), Heft 10, S. 737-739
    Online academicJournal
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    Plasma-enhanced deposition of high-quality epitaxial silicon at low temperatures
    COMFORT, J. H ; REIF, R
    In: Applied physics letters, Jg. 51 (1987), Heft 24, S. 2016-2018
    Online academicJournal
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    Epitaxial growth of silicon by photochemical vapor deposition at a very low temperature of 200 °C
    NISHIDA, S ; SHIIMOTO, T ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 49 (1986), Heft 2, S. 79-81
    Online academicJournal
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    Bias assisted etching of diamond in a conventional chemical vapor deposition reactor
    STONER, B. R ; TESSMER, G. J ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 62 (1993), Heft 15, S. 1803-1805
    Online academicJournal
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    Atmospheric photoassisted chemical vapor deposition of Si using ultraviolet-light irradiated H2 carrier gas and nonexcited SiH2Cl2
    MOTAHARUL KABIR, MAZUMDER ; TAKAKUWA, Y ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 61 (1992), Heft 24, S. 2881-2883
    Online academicJournal
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    Determination of activation energies for diamond growth by an advanced hot filament chemical vapor deposition method
    KONDOH, E ; OHTA, T ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 59 (1991), Heft 4, S. 488-490
    Online academicJournal
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    Kinetics of nucleation and growth of Si on SiO2 in very low pressure SiH4 chemical vapor deposition
    DANA, S. S ; LIEHR, M ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 61 (1992), Heft 25, S. 3035-3037
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    Synthesis of diamond filaments in an oxyacetylene torch
    MORRISON, P. W ; COSGROVE, J. E ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 60 (1992), Heft 5, S. 565-567
    Online academicJournal
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    Diamond synthesis by microwave plasma chemical vapor deposition using graphite as the carbon source
    SALVADORI, M. C ; AGER, J. W ; et al.
    In: Applied physics letters, Jg. 59 (1991), Heft 19, S. 2386-2388
    Online academicJournal
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