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337 Treffer

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    Status of Cat-CVD (Hot Wire CVD) research in the United States
    MAHAN, A. H
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 12-16
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Status of Cat-CVD (Hot-Wire CVD) research in Europe
    SCHROPP, R. E. I
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 17-24
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Development of Cat-CVD apparatus for 1-m-size large-area deposition
    ISHIBASHI, Keiji ; KARASAWA, Minoru ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 58-62
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Identification and gas phase kinetics of radical species in Cat-CVD processes of SiH4
    NOZAKI, Yoshitaka ; KITAZOE, Makiko ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 47-50
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The role of hydrogen dilution of silane and phosphorus doping on hydrogenated microcrystalline silicon (μc-Si:H) films prepared by hot-wire chemical vapor deposition (HW-CVD) technique
    JADKAR, S. R ; SALI, J. V ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 206-212
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Surface modification of silicon related materials using a catalytic CVD system for ULSI applications
    IZUMI, Akira
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 260-265
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Highly conducting doped microcrystalline silicon (μc-Si:H) at very low substrate temperature by Cat-CVD
    DUSANE, R. O ; DIEHL, Frank ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 202-205
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Fundamental properties of ECR plasma CVD and hydrogen-induced low temperature Si epitaxy
    SASAKI, Kimihiro
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 225-229
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Formation of silicon films for solar cells by the Cat-CVD method
    KOMODA, Manabu ; KAMESAKI, Koji ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 198-201
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Development of the Cat-CVD apparatus and its feasibility for mass production
    ISHIBASHI, Keiji
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 55-60
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Correlated structural and electronic properties of microcrystalline silicon films deposited at low temperature by catalytic CVD
    BOUREE, J. E
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 157-162
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Substrate influence on the properties of doped thin silicon layers grown by Cat-CVD
    SOLER, D ; FONRODONA, M ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 157-160
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Shutterless deposition of phosphorous doped microcrystalline silicon by Cat-CVD
    FONRODONA, M ; GORDIJN, A ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 145-148
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Quantitative analysis of tungsten, oxygen and carbon concentrations in the microcrystalline silicon films deposited by hot-wire CVD
    BOUREE, J. E ; GUILLET, J ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 110-115
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Preparation of poly-Si films by Cat-CVD for thin film transistor
    SUNAYAMA, Hideki ; YAMADA, Kazutaka ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 226-229
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Highly conducting doped poly-Si deposited by hot wire CVD and its applicability as gate material for CMOS devices
    PATIL, Samadhan B ; VAIRAGAR, Anand V ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 63-66
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Effects of ions and electrons in electron-beam-excited plasma assisted CVD on nanocrystalline silicon film properties
    OHSHITA, Y ; YAMAGUCHI, K ; et al.
    In: ICCG-13/ICVGE-11: Proceedings of the Thirteenth International Conference on Crystal Growth in conjunction with the Eleventh International Conference on Vapor Growth and Epitaxy, Kyoto, Japan, 30 July - 4 August 2001. Part 2, Jg. 237-39 (2002), S. 1394-1398
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Effects of atomic hydrogen in gas phase on a-Si:H and poly-Si growth by catalytic CVD
    UMEMOTO, Hironobu ; NOZAKI, Yoshitaka ; et al.
    In: Proceedings of the 19th international conference on amorphous and microcrystalline semiconductors - science and technology (ICAMS 19), Nice, France, August 27-31, 2001. Part A, Jg. 299302 (2002), S. 9-13
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The influence of filament temperature on crystallographic properties of poly-Si films prepared by the hot-wire CVD method
    JEONG CHUL, LEE ; KI HWAN, KANG ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 188-193
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The influence of different catalyzers in hot-wire CVD for the deposition of polycrystalline silicon thin films
    VAN VEENENDAAL, P. A. T. T ; GIJZEMAN, O. L. J ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 194-197
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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