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    Electron beam / DUV intra-level mix-and-match lithography for random logic 0.25μm CMOS
    Jonckheere, Rik ; L. Van den hove ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 27 (1995-02-01), S. 231-234
    Online unknown
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    DUV lithography for 0.35 μm CMOS processing
    Veerle Van Driessche ; Luc Van den hove ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 27 (1995-02-01), S. 243-246
    Online unknown
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    SLM device for 193 nm lithographic applications
    Lauria, J. ; Albright, Ronald P. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 86 (2009-04-01), S. 569-572
    Online unknown
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    New system for fast submicron optical direct writing
    Kück, H. ; Melcher, R. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 30 (1996), S. 123-127
    Online unknown
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    Fully scaled 0.5 μm MOS cicuits by synchroton X-ray lithography: Resist systems and line width control
    Wilson, A. D. ; Crockatt, D. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 9 (1989-05-01), S. 97-100
    Online unknown
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  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    A direct-write electron beam lithography process using multi-layer resists and its application to silicon-on-sapphire technology
    Mortimer, S.H. ; A G Brown ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 3 (1985-12-01), S. 443-450
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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sm 576 - 768
md 768 - 992
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