Zum Hauptinhalt springen
UB Hagen

Suchergebnisse

UB Katalog

Artikel & mehr
5 Treffer

Suchmaske

Suchtipp für den Bereich Artikel & mehr: Wörter werden automatisch mit UND verknüpft. Eine ODER-Verknüpfung erreicht man mit dem Zeichen "|", eine NICHT-Verknüpfung mit einem "-" (Minus) vor einem Wort. Anführungszeichen ermöglichen eine Phrasensuche.
Beispiele: (burg | schloss) -mittelalter, "berufliche bildung"

Das folgende Suchfeld wird hier nicht unterstützt: "Signatur / Strichcode".

Suchergebnisse einschränken oder erweitern

Aktive Suchfilter

Erscheinungszeitraum

Mehr Treffer

Weniger Treffer

Gefunden in

Art der Quelle

Schlagwort

Publikation

Sprache

5 Treffer

Sortierung: 
  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    Embedded nano channels fabricated by non-selective reverse contact UV nanoimprint lithography technique
    KEHAGIAS, N ; CHANSIN, G ; et al.
    In: Proceedings of the 32nd International Conference on Micro- and Nano-Engineering, Barcelona, 17-20 September 2006, Jg. 84 (2007), Heft 5-8, S. 921-924
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Hybrid lithography process for nano-scale devices
    PAULIAC, S ; LANDIS, S ; et al.
    In: Proceedings of the 31st International Conference on Micro- and Nano-Engineering: 19-22 September 2005, Vienna, Austria, Jg. 83 (2006), Heft 4-9, S. 1761-1766
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Stress characteristics in EUV mask Mo/Si multilayers deposited by ion beam sputtering
    TEYSSIER, C ; QUESNEL, E ; et al.
    In: Micro- and nano- engineering 2001, MNE: proceedings of the 27th international conference on micro- and nano-engineering, September 16-19, Jg. 61-62 (2002), S. 241-250
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    HSQ hybrid lithography for 20 nm CMOS devices development
    MOLLARD, L ; CUNGE, G ; et al.
    In: Micro- and nano- engineering 2001, MNE: proceedings of the 27th international conference on micro- and nano-engineering, September 16-19, Jg. 61-62 (2002), S. 755-761
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Patterning of narrow porous SiOCH trenches using a TiN hard mask
    DARNON, M ; CHEVOLLEAU, T ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 85 (2008), Heft 11, S. 2226-2235
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -