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    A wide-field-of-view metalens array for CMOS image sensors’ conical light focusing
    Ma, Xiaoshao ; Luo, Qing ; et al.
    In: Results in Physics, Jg. 59 (2024-04-01), Heft 107583-
    Online academicJournal
    Zugriff:
    View record in DOAJ (Volltext)
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    Study of dark current random telegraph signal in proton-irradiated backside illuminated CMOS image sensors
    Liu, Bingkai ; Li, Yudong ; et al.
    In: Results in Physics, Jg. 19 (2020-12-01), Heft 103443-
    Online academicJournal
    Zugriff:
    View record in DOAJ (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Single chip integration of MWCNTs/SiO2 thin film humidity sensor based on standard CMOS IC process
    TUO, LI ; XIAOWEI, LIU ; et al.
    In: Micro/Nano Devices and Systems 2013: An open thematic journal issue, Jg. 119 (2014), S. 155-158
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Post-processing and performance analysis of BEOL integrated MEMS pressure sensor capacitors in 8-metal 130 nm CMOS
    ANANIAH DURAI, SUNDARARAJAN ; REZAUL HASAN, S. M
    In: Micro/Nano Devices and Systems 2013: An open thematic journal issue, Jg. 119 (2014), S. 89-94
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Monolithic z-axis CMOS MEMS accelerometer
    TSENG, Sheng-Hsiang ; WU, Po-Chang ; et al.
    In: Micro/Nano Devices and Systems 2013: An open thematic journal issue, Jg. 119 (2014), S. 178-182
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Silicon nanowires integrated with CMOS circuits for biosensing application
    JAYAKUMAR, G ; ASADOLLAHI, A ; et al.
    In: Solid-state electronics, Jg. 98 (2014), S. 26-31
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Proximity gettering of slow diffuser contaminants in CMOS image sensors
    RUSSO, F ; MOCCIA, G ; et al.
    In: Solid-state electronics, Jg. 91 (2014), S. 91-99
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    CMOS-MEMS switches based on back-end metal layers
    MUNOZ-GAMARRA, J. L ; VIDAL-ALVAREZ, G ; et al.
    In: Micro/Nano Devices and Systems 2013: An open thematic journal issue, Jg. 119 (2014), S. 127-130
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    An integrated electroless nickel plating process for fabrication of CMOS-MEMS probe chip
    LEE, Kuo-Yu ; HUANG, Jung-Tang ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 113 (2013), S. 147-151
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Resistive humidity microsensor with circuit manufactured by the CMOS process
    YANG, Ming-Zhi ; DAI, Ching-Liang ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 105 (2013), S. 81-85
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Accurate operation of a CMOS integrated temperature sensor
    LI, JIANG ; WEISHENG, XU ; et al.
    In: Microelectronics journal, Jg. 41 (2010), Heft 12, S. 897-905
    academicJournal
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Hybrid CMOS thin-film devices based on solution-processed CdS n-TFTs and TIPS-Pentacene p-TFTs
    PEREZ, Michael R ; MEJIA, Israel ; et al.
    In: Organic electronics (Print), Jg. 13 (2012), Heft 12, S. 3045-3049
    academicJournal
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Low temperature radio-frequency transverse susceptibility measurements using a CMOS oscillator circuit
    FIGUEROA, A. I ; BARTOLOME, J ; et al.
    In: Journal of magnetism and magnetic materials, Jg. 324 (2012), Heft 17, S. 2669-2675
    academicJournal
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Bimorph actuator with monolithically integrated CMOS OFET control
    CARTA, Fabio ; HSU, Yu-Jen ; et al.
    In: Organic electronics (Print), Jg. 14 (2013), Heft 1, S. 286-290
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Single Event crosstalk shielding for CMOS logic
    SAYIL, Selahattin ; AKKUR, Abhishek B ; et al.
    In: Microelectronics journal, Jg. 40 (2009), Heft 6, S. 1000-1006
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    A wide dynamic range CMOS image sensor with pulse-frequency-modulation and in-pixel amplification
    YONG, CHEN ; FEI, YUAN ; et al.
    In: Microelectronics journal, Jg. 40 (2009), Heft 10, S. 1496-1501
    academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    UV lithography-based protein patterning on silicon: Towards the integration of bioactive surfaces and CMOS electronics
    LENCI, S ; TEDESCHI, L ; et al.
    In: Applied surface science, Jg. 257 (2011), Heft 20, S. 8413-8419
    academicJournal
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Millimeter-scale self-collimation in planar photonic crystals fabricated by CMOS technology
    ZHIFENG, YANG ; AIMIN, WU ; et al.
    In: Optics communications, Jg. 283 (2010), Heft 4, S. 604-607
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    PECVD formation of ultrathin silicon nitride layers for CMOS technology
    BECK, R. B ; GIEDZ, M ; et al.
    In: The international symposium on ion implantation and other applications of ions and electrons - ION 2002, 10-13 June 2002, Kazimierz Dolny, Poland, Jg. 70 (2003), Heft 2-3, S. 323-329
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Modeling of circuits with strongly temperature dependent thermal conductivities for cryogenic CMOS
    HAMLET, J ; ENG, K ; et al.
    In: Microelectronics journal, Jg. 42 (2011), Heft 7, S. 936-941
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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