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    Characterization of epitaxial CVD graphene on Ir(111)/α-Al2O3(0001) by photoelectron momentum microscopy
    Hashimoto, Eri ; Tamura, Keigo ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 61 (2022-04-20), S. SD1015
    Online unknown
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    Wavelength tuning for random lasing of mist-CVD-grown Zn1−x Mg x O crystals with nanostructures on a-plane sapphire substrates
    Kanai, Takahisa ; Fujiwara, Kenya ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 61 (2022-04-19), S. 055502-55502
    Online unknown
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    Ultra-high-rate deposition of diamond-like carbon films using Ar/C2H2 plasma jet CVD in combination with substrate-stage discharge
    Harigai, Toru ; Ohhra, Hikaru ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 61 (2022-03-25), S. SI1001
    Online unknown
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    Corrigendum: 'Initial nucleation scheme of Ga2O3 on (0001) sapphire by mist CVD for the growth of α-phase' [Jpn. J. Appl. Phys. 60, 055501 (2021)]
    Takane, Hitoshi ; Kaneko, Kentaro ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 61 (2022-08-15), S. 099301-99301
    Online unknown
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    Co-porphyrin functionalized CVD graphene ammonia sensor with high selectivity to disturbing gases: hydrogen and humidity
    Uchida, Ken ; Terao, Jun ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 59 (2020-02-19), S. SGGG09
    Online unknown
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    First-principles and thermodynamic analysis for gas phase reactions and structures of the SiC(0001) surface under conventional CVD and Halide CVD environments
    Chokawa, Kenta ; Yoda, Takashi ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 60 (2021-07-26), S. 085503-85503
    Online unknown
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    Influence of residual dopants to net doping concentration in N-type 4H-SiC films grown using high-speed wafer rotation vertical CVD method
    Daigo, Yoshiaki ; Takada, Yuya ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 61 (2022-02-16), S. SC1041
    Online unknown
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    Crystallization of catalytic CVD hydrogenated n-a-Si films on textured glass substrates by flash lamp annealing
    Wang, Zheng ; Huynh Thi Cam Tu ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 61 (2022-01-28), S. SB1019
    Online unknown
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    Initial nucleation scheme of Ga2O3 on (0001) sapphire by mist CVD for the growth of α-phase
    Ota, Yuichi ; Takane, Hitoshi ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 60 (2021-04-20), S. 055501-55501
    Online unknown
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    Photoluminescence properties and random lasing behaviors of mist-CVD-grown ZnO disordered nanocrystals on c-plane sapphire substrate
    Iwata, Jun-ichi ; Ohashi, Kosei ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 60 (2021-09-07), S. 100901-100901
    Online unknown
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    Turbostratic stacked CVD graphene for high-performance devices
    Uemura, Kohei ; Ikuta, Takashi ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 57 (2018-02-14), S. 030311-30311
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    Tunnel Nitride Passivated Contacts for Silicon Solar Cells Formed by Cat-CVD
    Huynh Thi Cam Tu ; Ohdaira, Keisuke ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 60 (2021-02-04), S. SBBF09
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    Passivation of textured crystalline silicon surfaces by catalytic CVD silicon nitride films and catalytic phosphorus doping
    Trinh Thi Cham ; Matsumura, Hideki ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 56 (2017-09-11), Heft 10, S. 102301-102301
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    Schottky barrier diodes fabricated on high-purity type-IIa CVD diamond substrates using an all-ion-implantation process
    Hoshino, Yasushi ; Shigematsu, Seiya ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 60 (2021-04-26), S. 050903-50903
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    A preliminary study on mist CVD-derived ferroelectric Hf1−x Zr x O2 films featuring its possibility of suitable operation for non-volatile analog memory
    Tahara, Daisuke ; Nishinaka, Hiroyuki ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 59 (2020-08-25), S. SPPB09
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    Thickness dependence of the passivation quality of Cat-CVD SiN_x films
    Ohdaira, Keisuke ; Yuli, Wen
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 59 (2019-12-04), S. SCCB07
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    CVD grown bilayer WSe2/MoSe2 heterostructures for high performance tunnel transistors
    Endo, Takahiko ; Okada, Naoya ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 59 (2020-02-06), S. SGGH05
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    Aerosol assisted atmopheric pressure PE-CVD of drug containing nano-capsules
    C. Lo Porto ; Camporeale, Giuseppe ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 59 (2019-11-07), S. SA0801
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    Control of plasma-CVD SiO2/InAlN interface by N2O plasma oxidation
    Kitawaki, Yuya ; Akazawa, Masamichi ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 58 (2019-09-13), S. 106504-106504
    Online unknown
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    Real-time observation on hot-filament-assisted CVD growth of graphene
    Taira, Takanobu ; Saiki, Koichiro ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 58 (2019-07-10), S. SIIB24
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