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  1. PUTILIN, S. N ; ANTIPOV, E. V ; et al.
    In: International Discussion Meeting on Chemistry Approaches to High-Tc Superconductive Materials / 5th International Workshop on Chemical Designing and Processing of High-Tc Superconductors (Chem-HTSC-V), Jg. 338 (2000), Heft 1-2, S. 52-59
    Konferenz
  2. AURIVILLIUS, K ; STALHANDSKE, C
    academicJournal
  3. KUKLI, Kaupo ; RITALA, Mikko ; et al.
    In: Proceedings of Symposium J on Synthesis Processing and Characterization of Nanoscale Functional Oxide Films - EMRS 2006 Conference, Nice, May 29-June 2, Jg. 515 (2007), Heft 16, S. 6447-6451
    Konferenz
  4. THRUM, F ; CHOI, K.-H ; et al.
    In: Proceedings of the 32nd International Conference on Micro- and Nano-Engineering, Barcelona, 17-20 September 2006, Jg. 84 (2007), Heft 5-8, S. 1033-1036
    Konferenz
  5. FAGETH, Reiner ; SCHMIDT-SACHT, Wulf
    In: Color imaging X : processing, hardcopy, and applications (San Jose CA, 17-20 January 2005), 2005, S. 473-480
    Konferenz
  6. FAGETH, Reiner ; SCHMIDT-SACHT, Wulf
    In: Color imaging IX : processing, hardcopy, and applications (San Jose CA, 20-22 January 2004), 2004, S. 75-80
    Konferenz
  7. ROTERS, Georg ; HAYN, Regina ; et al.
    In: Advanced short-time thermal processing for Si-based CMOS devices (Paris, 27 April - 2 May 2003), 2003, S. 385-390
    Konferenz
  8. NANDZIK, Jan ; LITZ, Berenike ; et al.
    In: Automated Media Analysis and Production for Novel TV Services, Jg. 63 (2013), Heft 2, S. 287-329
    Online academicJournal
  9. SCHWEIZER, H ; GRABELDINGER, H ; et al.
    In: Proceedings: 4th International Symposium on Blue Lasers and Light Emitting Diodes (ISBLLED2002), CÓrdoba, Spain, March 11-15, Jg. 192 (2002), Heft 2, S. 301-307
    Online Konferenz
  10. UMBACH, Frank ; ACKER, Heinrich ; et al.
    In: Cooperative Research Center on Integrated Mechatronic Systems (IMES), Jg. 12 (2002), Heft 8, S. 1023-1033
    Konferenz
  11. WEILAND, R ; BOIT, C ; et al.
    In: In-line characterization, yield, reliability, and failure analysis in microelectronic manufacturing II (Edinburgh, 31 May - 1 June 2001), 2001, S. 21-30
    Konferenz
  12. RÖWE, M ; MICHLER, P ; et al.
    In: ICNS 4: Fourth International Conference on Nitride Semiconductors, Denver, Colorado, USA, July 16-20, 2001. (Part A.1), Jg. 188 (2001), Heft 1, S. 65-68
    Online Konferenz
  13. VEHSE, M ; MICHLER, P ; et al.
    In: ICNS 4: Fourth International Conference on Nitride Semiconductors, Denver, Colorado, USA, July 16-20, 2001. (Part A.1), Jg. 188 (2001), Heft 1, S. 109-112
    Online Konferenz
  14. VALANT, Matjaz ; SUVOROV, Danilo ; et al.
    In: Microwave Materials and their Applications 2000, Jg. 21 (2001), Heft 15, S. 2647-2651
    Konferenz
  15. SUCHANECK, G ; TEWS, R ; et al.
    In: Proceedings of the 6th International Conference on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, Germany, September 14-18, 1998, Jg. 116-19 (1999), S. 456-460
    Konferenz
  16. PRZYGODDA, Frank ; KNITTEL, Joachim ; et al.
    In: Optical review, Jg. 16 (2009), Heft 6, S. 583-586
    Online academicJournal
  17. FIDLIN, A ; STAMM, W
    In: European journal of mechanics. A. Solids, Jg. 28 (2009), Heft 3, S. 526-534
    academicJournal
  18. RYZHIK, B
    In: Journal of sound and vibration, Jg. 326 (2009), Heft 3-5, S. 623-632
    academicJournal
  19. KEIL, Katja ; HAUPTMANN, Marc ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 86 (2009), Heft 12, S. 2408-2411
    academicJournal
  20. KNITTEL, J ; MÖSSNER, J ; et al.
    In: Microsystem technologies, Jg. 15 (2009), Heft 3, S. 471-476
    Online academicJournal
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