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    Moisture barrier properties of thin organic-inorganic multilayers prepared by plasma-enhanced ALD and CVD in one reactor.
    Bülow, Tim ; Gargouri, Hassan ; et al.
    In: Nanoscale Research Letters, Jg. 9 (2014-12-01), Heft 1, S. 1-6
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
    View record at Springer (Volltext)
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    Effect of nitrogen doping on the structure and electrochemical properties of vertical graphene sheets prepared by HWP-CVD.
    Ji, Peiyu ; Chen, Jiali ; et al.
    In: Vacuum, Jg. 207 (2023), S. N.PAG
    academicJournal
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    Silica-Based Thin Films by PE-CVD: An XPS Characterization.
    Barreca, Davide
    In: Surface Science Spectra, Jg. 13 (2006-12-01), Heft 1, S. 81-86
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Application of optical emission spectroscopy for the determination of optimal CVD diamond growth parameters in abnormal glow discharge plasma.
    Linnik, S.A. ; Gaydaychuk, A.V.
    In: Vacuum, Jg. 103 (2014-05-01), S. 28-32
    academicJournal
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    Growth of carbon nitride using microwave plasma CVD
    Sakamoto, Yukihiro ; Takaya, Matsufumi
    In: Thin Solid Films, Jg. 475 (2005-03-22), Heft 1/2, S. 198-201
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Synthesis of highly oriented and dense conical carbon nanofibers by a DC bias-enhanced microwave plasma CVD method
    Zhong, Goufang ; Iwasaki, Takayuki ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 464/465 (2004-10-01), S. 315-318
    academicJournal
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    Intermediate gas phase precursors during plasma CVD of HMDSO
    Theirich, D. ; Soll, Ch. ; et al.
    In: Vacuum, Jg. 71 (2003-05-19), Heft 3, S. 349-359
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Deposition of amorphous hydrogenated carbon films on Si and PMMA by pulsed direct-current plasma CVD
    Sung, Ta-Lun ; Chao, Yu-An ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 519 (2011-08-01), Heft 20, S. 6688-6692
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Synthesis of boron-doped diamond films by DC plasma CVD using a CH4+CO2+H2 gas mixture at lower substrate temperature and formation of an n-Si/p-diamond heterojunction
    Saha, P. ; Kundoo, S. ; et al.
    In: Vacuum, Jg. 72 (2003-10-24), Heft 2, S. 129-134
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Fluorine-Doped Iron Oxide Nanomaterials by Plasma Enhanced-CVD: An XPS Study.
    Carraro, Giorgio ; Gasparotto, Alberto ; et al.
    In: Surface Science Spectra, Jg. 20 (2013-12-01), Heft 1, S. 9-16
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Comparative studies of physical and chemical properties of plasma-treated CVD low k SiOCH dielectrics
    Tsang, C.F. ; Su, Y.J. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 462/463 (2004-09-01), S. 269-274
    academicJournal
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    Nanostructures of mixed-phase boron nitride via biased microwave plasma-assisted CVD.
    Huang, Po-Chih ; Wong, Ming-Show
    In: Vacuum, Jg. 100 (2014-02-01), S. 66-70
    academicJournal
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    Pulsed plasmas study of linear antennas microwave CVD system for nanocrystalline diamond film growth.
    Vlcek, Jan ; Fendrych, Frantisek ; et al.
    In: Journal of Materials Research, Jg. 27 (2012-05-01), Heft 5, S. 863-867
    Online academicJournal
    Zugriff:
    View record at Springer (Volltext)
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Coatings and microstructures of monolithic TiB2 films and double layer and composite TiCN/TiB2 films from alkoxide solutions by thermal plasma CVD
    Shimada, S. ; Takahashi, M. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008-08-01), Heft 19, S. 6616-6621
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Sputter-assisted plasma CVD of wide or narrow optical bandgap amorphous CN x :H films using i-C4H10/N2 supermagnetron plasma
    Kinoshita, Haruhisa ; Ikuta, Ryo ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008-05-01), Heft 13, S. 4441-4445
    academicJournal
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    Response of radiation dosimeters based on in situ oxygen plasma post-treated CVD-diamond thin films to X-ray.
    Liao, Xiaoming ; Ran, Junguo ; et al.
    In: Journal of Materials Science, Jg. 45 (2010-05-15), Heft 10, S. 2780-2787
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
    View record at Springer (Volltext)
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Characteristics of Ni/SiC Schottky diodes grown by ICP-CVD.
    Gil, Tae-Hyun ; Kim, Han-Soo ; et al.
    In: Solid-State Electronics, Jg. 50 (2006-09-01), Heft 9/10, S. 1510-1514
    academicJournal
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Fabrication of spherical carbon via UHF inductively coupled microplasma CVD.
    Shimizu, Yoshiki ; Sasaki, Takeshi ; et al.
    In: Journal of Physics: D Applied Physics, Jg. 36 (2003-12-07), Heft 23, S. 2940-2944
    Online academicJournal
    Zugriff:
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Characterization of ultra-short pulsed discharge plasma for CVD processing.
    Mizuno, Akira ; Okazaki, Ken ; et al.
    In: IEEE Transactions on Industry Applications, Jg. 29 (1993-05-01), S. 656-660
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Direct current bias effects in RF induction thermal plasma diamond CVD.
    Berghaus, Jörg Oberste ; Meunier, Jean-Luc ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 30 (2002-02-01), Heft 1, S. 442-449
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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