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    Evolution of Surface Morphology With Hydrogen Dilution During Silicon Epitaxy by Mesoplasma CVD
    DIAZ, Jose Mario A ; KAMBARA, Makoto ; et al.
    In: Special Issue on Advances on Plasma Processing for Semiconductor Manufacturing, Jg. 37 (2009), Heft 9, S. 1723-1729
    Online academicJournal
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Two-Dimensional Spatial Profile of Volume Fraction of Nanoparticles Incorporated Into a-Si:H Films Deposited by Plasma CVD
    NAKAMURA, William Makoto ; MIYAHARA, Hiroomi ; et al.
    In: Images in Plasma Science, Jg. 36 (2008), Heft 4, S. 888-889
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Atmospheric-pressure PECVD coating and plasma chemical etching for continuous processing
    HOPFE, Volkmar ; SHEEL, David W
    In: Plenary and invited papers from ICOPS 2006, Jg. 35 (2007), Heft 2, S. 204-214
    Online Konferenz
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Synthesis of Polystyrene Thin Films by Means of an Atmospheric-Pressure Plasma Torch and a Dielectric Barrier Discharge
    MERCHE, Delphine ; POLEUNIS, Claude ; et al.
    In: Special Issue on Atmospheric-Pressure Plasmas: Science and Applications, Jg. 37 (2009), Heft 6, S. 951-960
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Applications of Pulsed Discharge to Thin-Film Deposition
    OPALINSKA, Teresa ; ULEJCZYK, Bogdan ; et al.
    In: Special Issue on Atmospheric-Pressure Plasmas: Science and Applications, Jg. 37 (2009), Heft 6, S. 934-940
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
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