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99 Treffer

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    Recent progress of Cat-CVD research in Japan: bridging between the first and second Cat-CVD conferences
    MATSUMURA, Hideki ; UMEMOTO, Hironobu ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 7-14
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Status of Cat-CVD (Hot-Wire CVD) research in Europe
    SCHROPP, R. E. I
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 17-24
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Formation of silicon films for solar cells by the Cat-CVD method
    KOMODA, Manabu ; KAMESAKI, Koji ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 198-201
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Development of the Cat-CVD apparatus and its feasibility for mass production
    ISHIBASHI, Keiji
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 55-60
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Preparation of poly-Si films by Cat-CVD for thin film transistor
    SUNAYAMA, Hideki ; YAMADA, Kazutaka ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 226-229
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Highly conducting doped poly-Si deposited by hot wire CVD and its applicability as gate material for CMOS devices
    PATIL, Samadhan B ; VAIRAGAR, Anand V ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 63-66
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Effects of atomic hydrogen in gas phase on a-Si:H and poly-Si growth by catalytic CVD
    UMEMOTO, Hironobu ; NOZAKI, Yoshitaka ; et al.
    In: Proceedings of the 19th international conference on amorphous and microcrystalline semiconductors - science and technology (ICAMS 19), Nice, France, August 27-31, 2001. Part A, Jg. 299302 (2002), S. 9-13
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The influence of filament temperature on crystallographic properties of poly-Si films prepared by the hot-wire CVD method
    JEONG CHUL, LEE ; KI HWAN, KANG ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 188-193
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The influence of different catalyzers in hot-wire CVD for the deposition of polycrystalline silicon thin films
    VAN VEENENDAAL, P. A. T. T ; GIJZEMAN, O. L. J ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 194-197
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Investigation of scaling-up issues in hot-wire CVD of polycrystalline silicon
    VAN DER WERF, C. H. M ; HARDEMAN, A. J ; et al.
    In: Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the E-MRS 2002 Spring Conference, Strasbourg, France, June 18-21, Jg. 427 (2003), Heft 1-2, S. 41-45
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Une nouvelle technologie d'appareils de dépôt chimique en phase vapeur. Partie 2 : Modélisation du dépôt de silicium pur à partir de silane et de silicium dopé in situ au phosphore / A new technology for CVD reactors. Part 2 : Modeling of polycristalline silicon deposition from silane and in situ phosphorus doped polysilicon deposition
    VERGNES, Huges ; DUVERNEUIL, Patrick ; et al.
    In: Canadian journal of chemical engineering, Jg. 78 (2000), Heft 4, S. 803-814
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Une nouvelle technologie d'appareils de dépôt chimique en phase vapeur. Partie 1 : Présentation et analyse des résultats expérimentaux / A new technology for CVD reactors. Part 1 : Presentation and analysis of experimental results
    VERGNES, Hugues ; DUVERNEUIL, Patrick ; et al.
    In: Canadian journal of chemical engineering, Jg. 78 (2000), Heft 4, S. 793-802
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Deposition and structural characterization of poly-Si thin films on Al-coated glass substrates using hot-wire chemical vapor deposition
    EBIL, Ozgene ; APARICIO, Roger ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 120-124
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Hydrogenation of polycrystalline silicon thin films
    HONDA, S ; MATES, T ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 144-148
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    The influence of the filament temperature on the structure of hot-wire deposited silicon
    VAN DER WERF, C. H. M ; VAN VEENENDAAL, P. A. T. T ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 46-49
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Spectroscopic and kinetic ellipsometry studies of hot-wire deposited polycrystalline silicon on glass
    VAN VEENENDAAL, P. A. T. T ; VAN DER MARK, Gerard W. M ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 41-45
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Poly-crystalline silicon thin films prepared by plasma-assisted hot-wire chemical vapor deposition
    LIU, F ; ZHU, M ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 182-185
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Deposition of HWCVD poly-Si films at a high growth rate
    RATH, J. K ; HARDEMAN, A. J ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 67-72
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Structural evaluation of polycrystalline silicon thin films by hot-wire-assisted PECVD
    FENG, Y ; ZHU, M ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 213-216
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Nanocrystalline silicon from hot-wire deposition : a photovoltaic material?
    BRÜHNE, K ; SCHUBERT, M. B ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 163-168
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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