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    Vapor pressure of precursors for CVD on the base of platinum group metals
    MOROZOVA, N. B ; ZHARKOVA, G. I ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.609
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Unique precursor delivery and control afforded by low-pressure pulsed-CVD process with ultrasonic atomization
    KRUMDIECK, S ; SBAIZERO, O ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.1161
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Thermal conversions of some Ba, Sr, Ti oxide precursors for CVD
    TURGAMBAEVA, A. E ; IGUMENOV, I. K
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.621
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Halide CVD of dielectric and ferroelectric oxides
    HARSTA, A
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.223
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Formation of high moisture and dopant diffusion resistivity silicon nitride films by catalytic-CVD method
    IZUMI, A ; SATO, H ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.901
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Elementary steps and application of the CVD of SiC/BN double layers
    HEMELTJEN, S ; HEINRICH, J ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.77
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Composition, morphology and particle size control in nanocrystalline iron oxide films grown by single-source CVD
    MATHUR, S ; VEITH, M ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.487
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    CVD deposition of cobalt oxide (Co3O4) from Co(acac)2
    RIVERA, E. Fischer ; ATAKAN, B ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.629
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    CVD copper thin film deposition using (a-methylstyrene)Cu(I)(hfac)
    ZHUANG, W ; CHARNESKI, L. J ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.553
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Advances in copper CVD for the semiconductor industry
    NORMAN, J. A. T
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.497
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Nanophased ZrO2-CeO2 or TiO2-ZrO2-CeO2 films by CVD as catalysts for hydrocarbon complete combustion
    BARRECA, D ; BATTISTON, G. A ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.453
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    MO CVD obtaining composite coatings from metal of platinum group on titanium electrodes
    GELFOND, N. V ; GALKIN, P. S ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.593
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    GeO2 and SiO2 thin film preparation with CVD using ultraviolet excimer lamps
    KUROSAWA, K ; MAEZONO, Y ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.739
    Konferenz
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    CVD growth of silicon films at high rates
    HOFSTÄTTER, M ; ATAKAN, B ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.293
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    (HFA)Cu 1,5-COD as the prospective precursor for CVD-technologies : The electronic structure, thermodynamical properties and process of formation of thin copper films
    LISKOVSKAYA, T. I ; BULUSHEVA, L. G ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.69
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    In situ mass spectrometry during thermal CVD of the tris-acetylacetonates of 3-d transition metals
    SEMYANNIKOV, P. P ; IGUMENOV, I. K ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.995
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Deposition of Cr, Al coatings on Ni by means of a PB and FB CVD process
    CHRISTOGLOU, C ; ANGELOPOULOS, G. N
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.1125
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Low pressure CVD of transparent Cu-Al-O and Cu-Ti-O thin films
    BARRECA, D ; BATTISTON, G. A ; et al.
    In: Journal de physique. IV, Jg. 91 (2001), S. Pr11.253
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    MOCVD of aluminium oxide films using aluminium β-diketonates as precursors
    DEVI, A ; SHIVASHANKAR, S. A ; et al.
    In: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 95 (2002), S. Pr4.139
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Study of SiO2-films deposited by adding N2O or O2 to TEOS in photo-chemical vapor deposition at room temperature
    MOTOYAMA, Y ; MIYANO, J.-I ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.1131
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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