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    Reducing average and peak temperatures of VLSI CMOS circuits by means of evolutionary algorithm applied to high level synthesis
    KOZIEL, Slawomir ; SZCZESNIAK, Wladyslaw
    In: Therminic '02, Jg. 34 (2003), Heft 12, S. 1167-1174
    Konferenz
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    Fault detection in CMOS/SOI mixed-signal circuits using the quiescent current test
    DE VENUTO, D ; KAYAL, M ; et al.
    In: Microelectronics journal, Jg. 33 (2002), Heft 5-6, S. 387-397
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Body ballast resistor enhances ESD robustness of deep sub-micron CMOS circuit
    JAM WEM, LEE ; JIN LIAN, SUB ; et al.
    In: Microelectronics journal, Jg. 35 (2004), Heft 9, S. 783-788
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    High-speed autozeroed CMOS comparator for multistep A/D conversion
    BRIANTI, F ; MANSTRETTA, A ; et al.
    In: ECCOMAS 96 Symposium on Modelling and Simulation of Microdevices and Microsystems, Jg. 29 (1998), Heft 11, S. 845-853
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    A CMOS 0.8 μm fully differential current mode buffer for HF SI circuits
    DE LA ROSA, J. M ; PEREZ-VERDU, B ; et al.
    In: ECCOMAS 96 Symposium on Modelling and Simulation of Microdevices and Microsystems, Jg. 29 (1998), Heft 11, S. 817-820
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Effects of hot-carrier degradation in analog CMOS circuits
    THEWES, R ; WEBER, W
    In: Microelectronic engineering, Jg. 36 (1997), Heft 1-4, S. 285-292
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Extraction of the BSIM3 1/f noise parameters in CMOS transistors
    VILDEUIL, J. C ; VALENZA, M ; et al.
    In: Microelectronics journal, Jg. 30 (1999), Heft 2, S. 199-205
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    2.0 V bipolar/CMOS differential logic methodology for iterative network implementation
    SIMION, V
    In: Integration (Amsterdam), Jg. 16 (1993), Heft 2, S. 163-177
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    REGINA test mask: research on EMC guidelines for integrated automotive circuits
    LOCHOT, C ; CALVET, S ; et al.
    In: 3rd International Workshop on Electromagnetic Compatibility of Integrated Circuits, Jg. 35 (2004), Heft 6, S. 509-523
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Practical study of idle tones in 2nd-order bandpass ΣΔ modulators
    DE LA ROSA, José M ; PEREZ-VERDU, Belén ; et al.
    In: 10th SASIMI workshop, Nara, Japan, 2001, Jg. 33 (2002), Heft 11, S. 1005-1009
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    VLSI design investigation for low-cost, low-power FFT/IFFT processing in advanced VDSL transceivers
    SAPONARA, S ; FANUCCI, L
    In: Microelectronics journal, Jg. 34 (2003), Heft 2, S. 133-148
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Architecture of non volatile memory with multi-bit cells
    CAMPARDO, G ; MICHELONI, R
    In: INFOS 2001: Proceedings of the 12th Biennial Conference on Insulating Films on Semiconductors, June 20-23, Jg. 59 (2001), Heft 1-4, S. 173-181
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Compact poly-CMP embedded flash memory
    VAN SCHAIJK, Rob ; WILS, Nicole ; et al.
    In: INFOS 2001: Proceedings of the 12th Biennial Conference on Insulating Films on Semiconductors, June 20-23, Jg. 59 (2001), Heft 1-4, S. 225-229
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Salicides: materials, scaling and manufacturability issues for future integrated circuits (invited)
    KITTL, J. A ; SHIAU, W. T ; et al.
    In: Materials for Advanced Metallization MAM'99, Jg. 50 (2000), Heft 1-4, S. 87-101
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Dynamic noise model and its application to high speed circuit design
    SEUNG HOON, CHOI ; SOMASEKHAR, Dinesh ; et al.
    In: International mixed signal testing workshop, Jg. 33 (2002), Heft 10, S. 835-846
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Study of thin gate oxide etching during plasma patterning of 0,1 μm Si gates
    DESVOIVRES, L ; BONVALOT, M ; et al.
    In: Micro- and Nano- Engineering 98, MNE. Proceedings of the International Conference on Micro- and Nanofabrication, September 22-24 1998, Leuven, Belgium, Jg. 46 (1999), Heft 1-4, S. 295-298
    Konferenz
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Effect of develop time on process windows in sub-half micron optical lithography
    ARTHUR, G ; MARTIN, B ; et al.
    In: Micro- and Nano- Engineering 98, MNE. Proceedings of the International Conference on Micro- and Nanofabrication, September 22-24 1998, Leuven, Belgium, Jg. 46 (1999), Heft 1-4, S. 77-80
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Capacitor matching insensitive algorithmic ADC requiring no calibrations
    QUINN, Patrick ; PRIBYTKO, Maxim
    In: Analog and mixed-signal IC design and design methodologies, Jg. 36 (2003), Heft 4, S. 211-228
    academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    An arithmetic residue to binary conversion technique
    HIASAT, Ahmad A
    In: Integration (Amsterdam), Jg. 36 (2003), Heft 1-2, S. 13-25
    academicJournal
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Three dimensional metallization for vertically integrated circuits : (Invited lecture)
    RAMM, P ; BOLLMANN, D ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 37-38 (1997), S. 39-47
    academicJournal
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