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    SiOxNy films deposited with SiCl4 by remote plasma enhanced CVD
    SANCHEZ, O ; MARTINEZ-DUART, J. M ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 34 (1999), Heft 12, S. 3007-3012
    Online academicJournal
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    Volltext (PDF)
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    Electroconductivity of sintered bodies of α-Al2O3-TiN composite prepared by CVD reaction in a fluidized bed
    TSUGEKI, K ; KATO, T ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 28 (1993), Heft 12, S. 3168-3172
    Online academicJournal
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    Full Text Finder (Volltext)
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    Impact damage behaviour of CVD-coated silicon nitride for gas turbines
    AKIMUNE, Y ; AKIBA, T ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 29 (1994), Heft 12, S. 3243-3247
    Online academicJournal
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    Full Text Finder (Volltext)
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    Sintering and microstructure of silicon nitride prepared by plasma CVD
    MORIYOSHI, Y ; FUTAKI, M ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 27 (1992), Heft 16, S. 4477-4482
    Online academicJournal
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    Full Text Finder (Volltext)
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    Preferred orientation of TiB2 plates prepared by CVD of the TiCl4 + B2H6 system
    MUKAIDA, M ; GOTO, T ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 26 (1991), Heft 24, S. 6613-6617
    Online academicJournal
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    Full Text Finder (Volltext)
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    Density and microstructure of CVD SiC-C nanocomposites
    WANG, Y ; SASAKI, M ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 26 (1991), Heft 24, S. 6618-6624
    Online academicJournal
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    Mechanical properties of SiNxCy ceramic films prepared by plasma CVD
    MORIYAMA, M ; KAMATA, K ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 26 (1991), Heft 5, S. 1287-1294
    Online academicJournal
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    Full Text Finder (Volltext)
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    CVD Mo, W and Cr oxycarbide, carbide and silicide coatings on SiC yarn
    KMETZ, M ; TAN, B. J ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 26 (1991), Heft 8, S. 2107-2110
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    TiN coatings on copper and phosphor-bronze plates by the CVD process, and their oxidation and corrosion stabilities / Revêtements de TiN sur tôles de cuivre et de bronze au phosphore déposés par un procédé de dépôt chimique en phase vapeur; stabilité vis-à-vis de l'oxydation et de la corrosion
    MOTOJIMA, S ; MIZUTANI, H
    In: Journal of materials science, Jg. 23 (1988), Heft 10, S. 3435-3439
    Online academicJournal
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    Sintering of ultrafine SiC powders prepared by plasma CVD
    KIJIMA, K ; NOGUCHI, H ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 24 (1989), Heft 8, S. 2929-2933
    Online academicJournal
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    Thermodynamic and experimental study of CVD of non-stoichiometric titanium nitride from TiCl4-N2-H2 mixtures
    TEYSSANDIER, F ; BERNARD, C ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 23 (1988), Heft 1, S. 135-140
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Preparation and properties of nickel silicide layers by the diffusion and CVD processes using Si2Cl6 as a source of silicon / Préparation et propriétés des couches de siliciure de nickel obtenues par des procédés de diffusion et de dépôt chimique en phase vapeur avec Si2Cl6 comme source de silicium
    MOTOJIMA, S ; KOHNO, M ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 22 (1987), Heft 2, S. 547-553
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    Atmospheric pressure chemical vapor deposition of transparent conducting films of fluorine doped zinc oxide and their application to amorphous silicon solar cells
    HAIFAN, LIANG ; GORDON, Roy G
    In: Journal of materials science, Jg. 42 (2007), Heft 15, S. 6388-6399
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    Properties and characterization of low-temperature amorphous PECVD silicon nitride films for solar cell passivation : Photovoltaic materials and phenoma
    ALI, S ; GHARGHI, M ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 40 (2005), Heft 6, S. 1469-1473
    Online Konferenz
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Comparative study of copper films prepared by ionized metal plasma sputtering and chemical vapor deposition in the Cu/TaN/SiO2/Si multilayer structure
    KHIN MAUNG, LATT ; SHER-YI, C ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 36 (2001), Heft 23, S. 5705-5712
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    Synthesis of dense forms of B-C-N system using chemical-vapor-deposition/high-pressure process
    ONODERA, A ; MATSUMOTO, K ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 36 (2001), Heft 3, S. 679-684
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Advances in DLC coatings by hybrid PSII and PECVD as a barrier to corrosion in simulated body fluid
    CHENGLONG, LIU ; DAZHI, YANG ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 40 (2005), Heft 21, S. 5603-5608
    Online academicJournal
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    Volltext (PDF)
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    Metal induced crystallization : Gold versus aluminium : Photovoltaic materials and phenoma
    PEREIRA, L ; AGUAS, H ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 40 (2005), Heft 6, S. 1387-1391
    Online Konferenz
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    Volltext (PDF)
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Application of Raman microscopy to the analysis of silicon carbide monofilaments : Characterisation of ceramics
    WARD, Y ; YOUNG, R. J ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 39 (2004), Heft 22, S. 6781-6790
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    Study on SiNx passivated Cu/Ta/SiO2/Si multilayer structure
    LATT, K. M ; PARK, H. S ; et al.
    In: Journal of materials science, Jg. 37 (2002), Heft 19, S. 4181-4188
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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