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    CMOSイメージセンサを例にした技術の社会実装 / Social implementation of technologies with CMOS image sensor as an example
    Hirayama, Teruo ; 照峰, 平山
    2020
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Beyond CMOS - Emerging Research Devices and Materials - / 新デバイス・新材料
    Akinaga, Hiroyuki ; 広幸, 秋永
    2019
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Al2O3固定電荷層適用における裏面照射型CMOSイメージセンサ暗電流低減についての検討 / Study of Dark Current Reduction of Back-side Illumination CMOS Image Sensor with Al2O3 fixed charge layer
    MASAKI, KAMIMURA ; MASASHI, YAMAGE ; et al.
    2016
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    0-25 GHz 65 nm CMOS Differential Double Pole Four Throw Switching Matrix / 0-25 GHz の65 nm CMOS 差動DP4Tスイッチングマトリクス
    Afreen, Azhari ; Shinya, Kazuki ; et al.
    2015
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Development of a CMOS-based Multimodal Neural Interface Device with Wide Area Coverage / 広範囲被覆可能なCMOSベースマルチモーダル脳刺激・計測デバイスの開発
    Takehara, Hiroaki ; Ohta, Jun ; et al.
    2015
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Advances in CMOS image sensors utilizing a 3D IC stacking technology / 三次元積層構造を活かしたイメージセンサの進化
    Iwamoto, Hayato ; 勇人, 岩元
    2020
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Introduction - Be positive about germanium! / どこまでGe-CMOS技術は進んでいるのか - イントロダクション -
    Toriumi, Akira ; 明, 鳥海
    2015
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Prediction and Control Technology for Etching Damage on Advanced CMOS / 最先端CMOS加工におけるダメージの予測・制御技術
    Fukasawa, Masanaga ; Kuboi, Nobuyuki ; et al.
    2015
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    4H-SiC CMOS論理回路作製に向けたBOSCHプロセスによるSiCディープエッチング
    SiC Deep Etching by the BOSCH Process for Making 4H-SiC CMOS Logic Circuits
    2019
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Ge-CMOSのためのGeO2/Ge界面制御 / GeO2/Ge interface control for Ge CMOS
    Toriumi, Akira ; 明, 鳥海
    2015
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Experimental Study on 2D-Si Layers for Future Several-nm CMOS (X) / 数nm-CMOS 素子用二次元Si層の検討 (Ⅹ) 水素アニールによる影響
    Aoki, Takashi ; Maeda, Taturo ; et al.
    2015
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Experimental Study on 2D-Si Layers for Future Several-nm CMOS(XI) / 数nm-MOS素子用二次元Si層検討（Ⅺ） ：C添加による物性変調
    Aoki, Takashi ; Mizuno, Tomohisa ; et al.
    2015
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    3次元構造デバイスにおけるプラズマダメージ層形成モデル / A Model for Plasma-induced Physical Damage in Three-dimensional Structures
    Eriguchi, Koji ; Ono, Kouichi ; et al.
    2015
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Challenges of leading-edge technology of plasma processing / 先端電子デバイスエッチング技術とその将来展望
    Masaru, IZAWA ; Michikazu, MORIMOTO ; et al.
    2015
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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