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    Applied Materials Unleashes Ultima HDP-CVD Tool
    In: Electronic News (1991), Jg. 46 (2000-09-18), Heft 38, S. 60
    Online serialPeriodical
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    Applied Materials, Novellus face off on one-step CVD process system
    Erkanat, Judy
    In: Electronic News (1991), Jg. 42 (1996-02-26), Heft 2105, S. 1-2
    Online serialPeriodical
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    Applied's Producer CVD Tool Reduces [NF.sub.3] Usage 40%
    In: Electronic News (1991), Jg. 47 (2001-06-25), Heft 26, S. 30
    Online serialPeriodical
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    Applied Rolls Out Latest Ultima HDP-CVD System
    In: Electronic News (1991), Jg. 47 (2001-06-04), Heft 23, S. 30
    Online serialPeriodical
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    Novellus Debuts CVD Tool for Low-k
    Chappell, Jeff
    In: Electronic News (1991), Jg. 46 (2000-07-17), Heft 29, S. 32
    Online serialPeriodical
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    Applied launches CVD technology for sub-50nm gates, improved SEMVision. (The Fab Line)
    In: Electronic News (1991), Jg. 48 (2002-07-08), Heft 28, S. 16-16
    Online serialPeriodical
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    Trikon Technologies launches Planar 300 CVD. (The Fab Line)
    In: Electronic News (1991), Jg. 48 (2002-04-22), Heft 17, S. 20-20
    Online serialPeriodical
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    CVD low-k dielectric solutions. (Product News)
    In: Solid State Technology, Jg. 45 (2002-04-01), Heft 4, S. S24
    Online serialPeriodical
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    Applied debuts CVD chamber, process
    In: Electronic News (1991), Jg. 40 (1994-05-02), Heft 2012, S. 52-52
    serialPeriodical
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    Next-generation CVD systems at Lam
    In: Electronic News (1991), Jg. 41 (1995-12-18), Heft 2096, S. 42-42
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
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    Applied Materials' New Ultima X HDP-CVD System Targets Sub-100 Nanometer Device Generations; Ultima X Sets Industry Benchmark for Advanced 70 nm Gap-Fill Performance
    In: EDGE: Work-Group Computing Report, 2001-05-28
    Online Zeitungsartikel
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    Applied unveils CVD system
    In: Electronic News (1991), Jg. 38 (1992-09-28), Heft 1931, S. 14-14
    serialPeriodical
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    Chips: Applied Materials announces major breakthrough in HDP-CVD with second-generation system; Ultima HDP-CBD Centura leads industry with first production-ready CVD system to deliver both standard and low k oxide films
    In: EDGE: Work-Group Computing Report, Jg. 7 (1996-12-02), S. 17-17
    Online Zeitungsartikel
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    Chips: Genus announces new modular single-wafer tungsten silicide CVD system for 0.35-micron & 0.25-micron wafer processing; Genus 7000 CVD system offers improvements in film quality & particle control with estimated 50 percent higher throughput over competing systems
    In: EDGE: Work-Group Computing Report, Jg. 5 (1994-12-05), Heft 237, S. 16-16
    Zeitungsartikel
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    Ti/TiN technology enables low-cost DRAMs
    In: Electronic Engineering Times, 1999-01-11, S. 101-101
    Online serialPeriodical
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    MRC unveils two deposition systems
    In: Electronic News (1991), Jg. 40 (1994-08-15), Heft 2027, S. 56-56
    serialPeriodical
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    MKS Unleashes In-Situ Deposition Monitors
    In: Electronic News (1991), Jg. 47 (2001-10-01), Heft 40, S. 34
    Online serialPeriodical
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Wet point-of-use system
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-03-01), Heft 3, S. 120
    Online serialPeriodical
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    Novellus Unveils Coral Films
    DORSCH, JEFF
    In: Electronic News (1991), Jg. 45 (1999-06-21), Heft 25, S. 42
    Online serialPeriodical
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    Liquid chemical delivery system. (Product Panorama)
    In: Solid State Technology, Jg. 45 (2002-07-01), Heft 7, S. 188-188
    Online serialPeriodical
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