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    Simulation of the optical effects of particles residing at the bottom of KrF positive photoresist films coated on Si substrates.
    Kamoshida, Mototaka ; Inui, Hirotomo ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 88 (2000-10-01), Heft 7, S. 4303-4309
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    KrF- and ArF-excimer-laser-induced absorption in silica glasses produced by melting synthetic silica powder.
    Kuzuu, Nobu ; Sasaki, Toshiya ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 114 (2013-07-07), Heft 1, S. 014902-14902
    Online academicJournal
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    Reaction analysis of initial oxidation of silicon by UV-light-excited ozone and the application to rapid and uniform SiO<subscript>2</subscript> film growth.
    Tosaka, Aki ; Nonaka, Hidehiko ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 101 (2007-02-01), Heft 3, S. 34909-34915
    Online academicJournal
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    Parametric investigation of laser nanoimprinting of hemispherical cavity arrays.
    Li, L. P. ; Lu, Y. F. ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 96 (2004-11-01), Heft 9, S. 5144-5151
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    Laser-induced back-side wet etching of fused silica with an aqueous solution containing organic molecules.
    Ding, X. ; Yasui, Y. ; et al.
    In: Applied Physics A: Materials Science & Processing, Jg. 75 (2002-09-01), Heft 3, S. 437-440
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    Comparison of the influence of the fictive and the annealing temperature on the UV-transmission properties of synthetic fused silica.
    Uhl, V. ; Greulich, K.O. ; et al.
    In: Applied Physics A: Materials Science & Processing, Jg. 65 (1997-10-01), Heft 4/5, S. 457-462
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    Ultraviolet induced defect creation and annihilation in low-temperature-deposited SiO2.
    Devine, R. A. B. ; Francou, J M.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 66 (1989-12-01), Heft 11, S. 5654-5656
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    One-step microfabrication of fused silica by laser ablation of an organic solution.
    Wang, J. ; Niino, H. ; et al.
    In: Applied Physics A: Materials Science & Processing, Jg. 68 (1999), Heft 1, S. 111-113
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    Laser-induced backside dry and wet etching of transparent materials using solid and molten tin as absorbers.
    Hopp, B. ; Smausz, T. ; et al.
    In: Applied Physics A: Materials Science & Processing, Jg. 94 (2009-03-15), Heft 4, S. 899-904
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    Laser cleaning of polymer surfaces.
    Fourrier, T. ; Schrems, G. ; et al.
    In: Applied Physics A: Materials Science & Processing, Jg. 72 (2001), Heft 1, S. 1-6
    Online academicJournal
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    Excimer-laser-induced micropatterning of silicon dioxide on silicon substrates.
    Yu, J.J. ; Zhang, J.Y. ; et al.
    In: Applied Physics A: Materials Science & Processing, Jg. 72 (2001), Heft 1, S. 35-39
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    Influence of storage time on laser cleaning of SiO[sub 2] on Si.
    Schrems, G. ; Delamare, M.P. ; et al.
    In: Applied Physics A: Materials Science & Processing, Jg. 76 (2003-03-31), Heft 5, S. 847-849
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    Power dependence of defect formation in SiO[sub 2] glass by F[sub 2] laser irradiation.
    Kajihara, Koichi ; Ikuta, Yoshiaki ; et al.
    In: Applied Physics Letters, Jg. 81 (2002-10-21), Heft 17, S. 3164-3166
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    Two-photon processes in defect formation by excimer lasers in synthetic silica glass.
    Arai, K. ; Imai, H. ; et al.
    In: Applied Physics Letters, Jg. 53 (1988-11-14), Heft 20, S. 1891-1893
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    Long-Period Gratings in Highly Germanium-Doped, Single-Mode Optical Fibers for Sensing Applications.
    Schlangen, Sebastian ; Bremer, Kort ; et al.
    In: Sensors (14248220), Jg. 18 (2018-05-01), Heft 5, S. 1363-1363
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    Deep-ultraviolet transparent conductive β-Ga[sub 2]O[sub 3] thin films.
    Orita, Masahiro ; Ohta, Hiromichi ; et al.
    In: Applied Physics Letters, Jg. 77 (2000-12-18), Heft 25
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    Photoinduced processes in Sn-doped silica fiber preforms.
    Chiodini, N. ; Ghidini, S. ; et al.
    In: Applied Physics Letters, Jg. 77 (2000-12-04), Heft 23
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    Micromachining of quartz crystal with excimer lasers by laser-induced backside wet etching.
    Wang, J. ; Niino, H. ; et al.
    In: Applied Physics A: Materials Science & Processing, Jg. 69 (1999-12-02), Heft 7, S. S271
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    Determining the properties of pulsed laser deposited thin films by controlling the kinetic energy of the film-forming particles.
    Gottmann, J. ; Schlaghecken, G. ; et al.
    In: Applied Physics A: Materials Science & Processing, Jg. 69 (1999-12-02), Heft 7, S. S597
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