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    Study on an improved MWECR CVD system and preparation of silicon-substrate thin films
    Zhu, Xin-Hong ; Chen, Guang-Hua ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 92 (2008-10-01), Heft 10, S. 1183-1187
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Structural studies on the microcrystallization of Si:H network developed by hot-wire CVD
    Chakraborty, Koyel ; Das, Debajyoti
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 90 (2006-05-05), Heft 7/8, S. 849-863
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Thin film poly-Si solar cells using PECVD and Cat-CVD with light confinement structure by RIE
    Niira, K. ; Senta, H. ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 74 (2002-10-01), Heft 1-4, S. 247-253
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Doping of a-SiC<subscript>X</subscript>:H films including μc-Si:H by hot-wire CVD and their application as a wide gap window for heterojunction solar cells
    Itoh, T. ; Fukunaga, K. ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 74 (2002-10-01), Heft 1-4, S. 379-385
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Structural and electrical properties of polycrystalline silicon films deposited by hot-wire CVD
    Lee, Jeong Chul ; Kang, Ki Hwan ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 74 (2002-10-01), Heft 1-4, S. 233-245
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    I–V characteristics of a-Si–c-Si hetero-junction diodes made by hot wire CVD
    Hernández-Como, Norberto ; Morales-Acevedo, Arturo ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 95 (2011-08-01), Heft 8, S. 1996-2000
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    High-temperature growth of thin film microcrystalline silicon on silicon carbide using EBEP-CVD
    Boreland, Matt ; Isogami, Masayuki
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 74 (2002-10-01), Heft 1-4, S. 561-566
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Deposition of hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) films by hot-wire chemical vapor deposition (HW-CVD) method: Role of substrate temperature
    Jadkar, S.R. ; Sali, J.V. ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 91 (2007-05-04), Heft 8, S. 714-720
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    High-pressure plasma CVD for high-quality amorphous silicon.
    Isomura, Masao ; Kondo, Michio ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 66 (2001-02-01), Heft 1-4, S. 375-380
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Boron-doped zinc oxide layers grown by metal-organic CVD for silicon heterojunction solar cells applications
    Favier, A. ; Muñoz, D. ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 95 (2011-04-01), Heft 4, S. 1057-1061
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Radiative energy loss in a polysilicon CVD reactor
    del Coso, Gonzalo ; del Cañizo, Carlos ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 95 (2011-04-01), Heft 4, S. 1042-1049
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Rigid amorphous silicon network from hydrogenated and fluorinated precursors in ECR-CVD
    Das, Debajyoti
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 81 (2004-02-06), Heft 2, S. 155-168
    academicJournal
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    In situ chamber cleaning using atomic H in catalytic-CVD apparatus for mass production of a-Si:H solar cells
    Masuda, Atsushi ; Ishibashi, Yoriko ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 74 (2002-10-01), Heft 1-4, S. 373-377
    academicJournal
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    TEM and EELS microanalysis of pc-Si thin film solar cells deposited by means of HW CVD.
    Stöger, M. ; Schattschneider, P. ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 70 (2001-12-01), Heft 1, S. 39-47
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    High growth-rate fabrication of micro-crystalline silicon by Helicon wave plasma CVD.
    Endo, Koji ; Isomura, Masao ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 66 (2001-02-01), Heft 1-4, S. 283-288
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Characterization of crystalline silicon grown by plasma-enhanced CVD for thin-film solar cells.
    Kurobe, Ken-ichi ; Fuyuki, Takashi ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 66 (2001-02-01), Heft 1-4, S. 1-9
    academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    High deposition rate amorphous and polycrystalline silicon materials using the pulsed plasma and 'Hot-Wire' CVD techniques.
    Madan, Arun ; Morrison, Scott
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 55 (1998-07-23), Heft 1/2, S. 127-139
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Effect of annealing on the electrical optical and structural properties of hydrogenated amorphous silicon films deposited in an asymmetric R.F. plasma CVD system at room temperature.
    Panwar, O.S. ; Mukherjee, C. ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 57 (1999-04-01), Heft 4, S. 373-391
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
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    Polycrystalline silicon film deposited by ICP-CVD.
    Byeong Yeon Moon ; Jae Hyoung Youn ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 69 (2001-09-01), Heft 2, S. 1-1
    academicJournal
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    Thin-film silicon solar cells on mullite substrates
    Slaoui, A. ; Pihan, E. ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 90 (2006-06-15), Heft 10, S. 1542-1552
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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