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    Cryogenic low noise and low dissipation multiplexing electronics, using HEMT+SiGe ASICs, for the readout of high impedance sensors: New version.
    de la Broïse, Xavier ; Lugiez, Francis ; et al.
    In: Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section A, Jg. 787 (2015-07-01), S. 64-67
    academicJournal
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    Low-temperature intrinsic plasticity in silicon at small scales.
    Merabet, A. ; Texier, M. ; et al.
    In: Acta Materialia, Jg. 161 (2018-12-01), S. 54-60
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Study of the nucleation and growth of InP nanowires on silicon with gold-indium catalyst.
    Mavel, Amaury ; Chauvin, Nicolas ; et al.
    In: Journal of Crystal Growth, Jg. 458 (2017-01-15), S. 96-102
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Phase formation in the Ni/n–InP contacts for heterogeneous III/V-silicon photonic integration.
    Ghegin, E. ; Nemouchi, F. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 156 (2016-04-20), S. 86-90
    academicJournal
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    Silicon surface preparation for III-V molecular beam epitaxy.
    Madiomanana, K. ; Bahri, M. ; et al.
    In: Journal of Crystal Growth, Jg. 413 (2015-03-01), S. 17-24
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    InAs/InP nanowires grown by catalyst assisted molecular beam epitaxy on silicon substrates
    Khmissi, H. ; Naji, K. ; et al.
    In: Journal of Crystal Growth, Jg. 344 (2012-04-01), Heft 1, S. 45-50
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Ionic liquid ion sources for silicon reactive machining
    Guilet, S. ; Perez-Martinez, C. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 88 (2011-08-01), Heft 8, S. 1968-1971
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Superhydrophobic surfaces fabricated by nanoimprint lithography
    Pozzato, Alessandro ; Zilio, Simone Dal ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 83 (2006-04-01), Heft 4-9, S. 884-888
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    FIB technology applied to the improvement of the crystal quality of GaN and to the fabrication of organised arrays of quantum dots
    Gierak, J. ; Bourhis, E. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 73/74 (2004-06-01), S. 610-614
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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