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    A CMOS compatible thermoelectric device made of crystalline silicon membranes with nanopores.
    Bah, Thierno-Moussa ; Didenko, Stanislav ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 33 (2022-12-10), Heft 50, S. 1-6
    academicJournal
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    Slot-die coating of silicon ink for volume production of CMOS polysilicon TFTs
    Ito, Mao ; Kamath, Arvind
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 60 (2021-09-13), S. 101001-101001
    Online unknown
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    Role of Noise in Spontaneous Activity of Networks of Neurons on Patterned Silicon Emulated by Noise–activated CMOS Neural Nanoelectronic Circuits
    Tanii, Takashi ; Yamamoto, Hideaki ; et al.
    In: Nano Express, Jg. 2 (2021-06-01), S. 020025-20025
    Online unknown
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    Silicon electro-optic micro-modulator fabricated in standard CMOS technology as components for all silicon monolithic integrated optoelectronic systems *
    Xu, Kaikai
    In: Journal of Micromechanics and Microengineering, Jg. 31 (2021-04-09), S. 054001-54001
    Online unknown
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    Design of GGNMOS ESD protection device for radiation-hardened 0.18 μm CMOS process
    Wu, Jianwei ; Yu, Zongguang ; et al.
    In: Journal of Semiconductors, Jg. 41 (2020-12-01), S. 122403-122403
    Online unknown
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    Wafer-scale fabrication of isolated luminescent silicon quantum dots using standard CMOS technology.
    Jingjian, Zhou ; Pevere, Federico ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 31 (2020-12-11), Heft 50, S. 1-8
    academicJournal
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    Silicon electro-optic micro-modulator fabricated in standard CMOS technology as components for all silicon monolithic integrated optoelectronic systems.
    Xu, Kaikai
    In: Journal of Micromechanics & Microengineering, Jg. 31 (2021-05-01), Heft 5, S. 1-10
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    3D Interconnect Process Integration and Characterization of Back Side Illuminated CMOS Image Sensor with 1.75 μm Pixels.
    Sung Gyu Pyo ; Park, S. H. ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 156 (2009-06-01), Heft 6, S. J143- (5S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    A CMOS-compatible silicon substrate optimization technique and its application in radio frequency crosstalk isolation
    Huailin, Liao ; Chen, Li ; et al.
    In: Chinese Physics B, Jg. 17 (2008-07-01), S. 2730-2738
    Online unknown
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    Radiation-hard Active Pixel Sensors for HL-LHC Detector Upgrades based on HV-CMOS Technology
    Miucci, A ; Gonella, L ; et al.
    In: Journal of Instrumentation, Jg. 9 (2014-05-30), S. C05064
    Online unknown
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    AC signal characterization for optimization of a CMOS single-electron pump
    Murray, Roy ; Perron, Justin K. ; et al.
    In: Nanotechnology, Jg. 29 (2018-01-08), S. 065202-65202
    Online unknown
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Study of rounded concave and sharp edge convex corners undercutting in CMOS compatible anisotropic etchants
    Sato, Kazuo ; Gosálvez, Miguel A. ; et al.
    In: Journal of Micromechanics and Microengineering, Jg. 17 (2007-10-10), S. 2299-2307
    Online unknown
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    Strained SOI/SGOI dual-channel CMOS technology based on the Ge condensation technique
    Moriyama, Y. ; Mizuno, Tomohisa ; et al.
    In: Semiconductor Science and Technology, Jg. 22 (2006-11-30), S. S93- (6S.)
    Online unknown
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Monolithic CMOS-compatible AlGaInP visible LED arrays on silicon on lattice-engineered substrates (SOLES)
    Mori, Michael J. ; Fitzgerald, Eugene A. ; et al.
    In: Semiconductor Science and Technology, Jg. 22 (2006-11-24), S. 29-34
    Online unknown
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Design and simulation of resistive SOI CMOS micro-heaters for high temperature gas sensors
    Syed Zeeshan Ali ; Gardner, Julian W. ; et al.
    In: Journal of Physics: Conference Series, Jg. 15 (2005), S. 27-32
    Online unknown
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Improvement of PECVD Silicon-Germanium Crystallization for CMOS Compatible MEMS Applications.
    Guo, Bin ; Seven, Simone ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 157 (2010-02-01), Heft 2, S. D103- (8S.)
    academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    A CMOS-compatible high aspect ratio silicon-on-glass in-plane micro-accelerometer
    Chae, Junseok ; Kulah, Haluk ; et al.
    In: Journal of Micromechanics and Microengineering, Jg. 15 (2004-11-25), S. 336-345
    Online unknown
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    First-ever test and characterization of the AMS standard bulk 0.35 μm CMOS technology at sub-kelvin temperatures
    Rhouni, A ; Reveret, V. ; et al.
    In: Journal of Physics: Conference Series, Jg. 834 (2017-05-02), S. 012005-12005
    Online unknown
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Evaluation of strained Si/SiGe material for high performance CMOS
    Kwa, K.S.K. ; Robbins, D. J. ; et al.
    In: Semiconductor Science and Technology, Jg. 19 (2004-04-09), S. 707-714
    Online unknown
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Proximity gettering of C3H5 carbon cluster ion-implanted silicon wafers for CMOS image sensors: Gettering effects of transition metal, oxygen, and hydrogen impurities
    Kadono, Takeshi ; Kurita, Kazunari ; et al.
    In: Japanese Journal of Applied Physics, Jg. 55 (2016-11-02), S. 121301-121301
    Online unknown
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