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    Conception, fabrication et caractérisation de lentilles planaires nano-structurées dédiées aux capteurs d'images CMOS dans le proche-infrarouge
    Lopez, Thomas
    2016
    Hochschulschrift
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    CMOS monolithic pyroelectric infrared focal plane arrays using PVDF thin films
    Weller, Harald
    2000
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    View record in EThOS (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Etude, applications et améliorations de la technique LVI sur les défauts rencontrés dans les technologies CMOS avancées 45nm et inférieur.
    Celi, Guillaume
    2013
    Hochschulschrift
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Advanced modeling of strained CMOS technology
    Ungersböck, Stephan-Enzo ; Kosina, Hans ; et al.
    2022
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    A novel fully depleted monolithic active CMOS microstrip sensor
    GIAMPAOLO, RAFFAELE AARON ; Giampaolo, RAFFAELE AARON ; et al.
    2022
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Development of isotropic etching processes of silicon to silicon-germanium for sub 10nm CMOS applications. ; Développement de procédés de gravure isotrope de Silicium sélectivement au silicium Germanium pour des applications CMOS sub 10nm
    Rachidi, Sana ; Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI) ; et al.
    In: https://theses.hal.science/tel-03097358 ; Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Grenoble Alpes [2020-.], 2020. Français. ⟨NNT : 2020GRALT030⟩, 2020
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Analyse de l’augmentation et de la fluctuation discrète du courant d’obscurité des imageurs CMOS dans les environnements radiatifs spatiaux et nucléaires ; Analysis of the dark current increase and its fluctuations in CMOS imagers operated in space and nuclear radiative environments
    Le Roch, Alexandre ; Toulouse, ISAE ; et al.
    2020
    Hochschulschrift
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Développement de procédés de gravure isotrope de Silicium sélectivement au silicium Germanium pour des applications CMOS sub 10nm ; Development of isotropic etching processes of silicon to silicon-germanium for sub 10nm CMOS applications.
    Rachidi, Sana ; Université Grenoble Alpes ; et al.
    2020
    Hochschulschrift
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Advanced PNP PIN phototransistors in submicrometer CMOS
    Kostov, Plamen ; Zimmermann, Horst ; et al.
    2020
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Predictive modeling of device and circuit reliability in highly scaled CMOS and SiGe BiCMOS technology
    Moen, Kurt Andrew
    2012
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Tin (Sn) - An Unlikely Ally to Extend Moore's Law for Silicon CMOS?
    Hussain, Aftab M.
    2012
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Atomic-scale modeling and experimental studies for dopants and defects in Si and SiGe nano-scale CMOS devices
    Kim, Yonghyun
    2010
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Charge noise and spin in single-electron silicon CMOS quantum dots ; Bruit de charge et spin dans des boites quantiques CMOS à électron unique
    Spence, Cameron ; Institut Néel (NEEL) ; et al.
    In: https://theses.hal.science/tel-03566464 ; Mesoscopic Systems and Quantum Hall Effect [cond-mat.mes-hall]. Université Grenoble Alpes [2020-.], 2021. English. ⟨NNT : 2021GRALY054⟩, 2021
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    High frequency physics and broadband instrumentation in CMOS silicon quantum devices
    CRIPPA, ALESSANDRO ; Crippa, A ; et al.
    2016
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Studies and integration of Silicon-based light emitting systems
    González Fernández, Alfredo A.
    2014
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    View record in TDX (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    CMOS-based Integrated Wavefront Sensor
    De Lima Monteiro, D.W. ; French, P.J. ; et al.
    2002
    Hochschulschrift
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Reinigung und Gasphasenepitaxie in einem Ultrahochvakuum-Mehrkammersystem für zukünftige CMOS-Technologien
    Bayerstadler, Anton
    In: Bayerstadler, Anton: Reinigung und Gasphasenepitaxie in einem Ultrahochvakuum-Mehrkammersystem für zukünftige CMOS-Technologien. Neubiberg : Erschienen im Cuvillier-Verl., Göttingen (978-3-86727-984-5), 2006, 2006
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    A study on electrical and material characteristics of hafnium oxide with silicon interface passivation on III-V substrate for future scaled CMOS technology
    Ok, Injo, 1974
    2008
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Characterization, integration and reliability of HfO 2 and LaLuO 3 high-kappa-metal gate stacks for CMOS applications
    Nichau, Alexander ; Mantl, Siegfried
    In: Aachen : Publikationsserver der RWTH Aachen University XI, 179 S. : Ill., graph. Darst. (2013). = Aachen, Techn. Hochsch.,, 2013
    Hochschulschrift
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Conception, fabrication et caractérisation de lentilles planaires nano-structurées dédiées aux capteurs d’images CMOS dans le proche-infrarouge ; Design, fabrication and characterization of nanostructured planar lenses dedicated to near infrared detection for CMOS image sensors
    Lopez, Thomas ; Institut Supérieur de l'Aéronautique et de l'Espace ; et al.
    2016
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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