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    What are integrated circuits (ICs)? Explain the difference between CMOS and TTL varieties. Why is it not common to find CMOS and TTL ICs in the same circuit?
    In: The Hutchinson Unabridged Encyclopedia with Atlas and Weather Guide; (2018)
    Online E-Book
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    300-GHz-Band Si-CMOS Project
    Kasamatsu, Akifumi ; Lotsch, H.K.V., Founding Editor ; et al.
    2022
    Online E-Book
    Wie komme ich dran?
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    Conception, fabrication et caractérisation de lentilles planaires nano-structurées dédiées aux capteurs d'images CMOS dans le proche-infrarouge
    Lopez, Thomas
    2016
    Hochschulschrift
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Development of integrated emission architectures for THz applications in 28nm FD-SOI CMOS technology ; Développement d'architectures d'émission intégrées pour des applications THz en technologie CMOS avancées
    Sadlo, Sébastien ; Bordeaux ; et al.
    2023
    Hochschulschrift
    Wie komme ich dran?
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    CMOS MEMS Fabrication Technologies
    Hongwei, Qu ; Huikai, Xie
    In: Encyclopedia of Nanotechnology; (2012)
    Online E-Book
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    CMOS monolithic pyroelectric infrared focal plane arrays using PVDF thin films
    Weller, Harald
    2000
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    View record in EThOS (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Etude, applications et améliorations de la technique LVI sur les défauts rencontrés dans les technologies CMOS avancées 45nm et inférieur.
    Celi, Guillaume
    2013
    Hochschulschrift
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Advanced modeling of strained CMOS technology
    Ungersböck, Stephan-Enzo ; Kosina, Hans ; et al.
    2022
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    A novel fully depleted monolithic active CMOS microstrip sensor
    GIAMPAOLO, RAFFAELE AARON ; Giampaolo, RAFFAELE AARON ; et al.
    2022
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    New High-K Materials for CMOS Applications
    Robertson, J
    In: Comprehensive Semiconductor Science and Technology; (2011)
    Online E-Book
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Development of isotropic etching processes of silicon to silicon-germanium for sub 10nm CMOS applications. ; Développement de procédés de gravure isotrope de Silicium sélectivement au silicium Germanium pour des applications CMOS sub 10nm
    Rachidi, Sana ; Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI) ; et al.
    In: https://theses.hal.science/tel-03097358 ; Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Grenoble Alpes [2020-.], 2020. Français. ⟨NNT : 2020GRALT030⟩, 2020
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Analyse de l’augmentation et de la fluctuation discrète du courant d’obscurité des imageurs CMOS dans les environnements radiatifs spatiaux et nucléaires ; Analysis of the dark current increase and its fluctuations in CMOS imagers operated in space and nuclear radiative environments
    Le Roch, Alexandre ; Toulouse, ISAE ; et al.
    2020
    Hochschulschrift
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    CMOS
    In: Webster's New World™ Computer Dictionary; (2003)
    Online E-Book
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Développement de procédés de gravure isotrope de Silicium sélectivement au silicium Germanium pour des applications CMOS sub 10nm ; Development of isotropic etching processes of silicon to silicon-germanium for sub 10nm CMOS applications.
    Rachidi, Sana ; Université Grenoble Alpes ; et al.
    2020
    Hochschulschrift
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Predictive modeling of device and circuit reliability in highly scaled CMOS and SiGe BiCMOS technology
    Moen, Kurt Andrew
    2012
    Online Hochschulschrift
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    Volltext
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Advanced PNP PIN phototransistors in submicrometer CMOS
    Kostov, Plamen ; Zimmermann, Horst ; et al.
    2020
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Tin (Sn) - An Unlikely Ally to Extend Moore's Law for Silicon CMOS?
    Hussain, Aftab M.
    2012
    Online Hochschulschrift
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Atomic-scale modeling and experimental studies for dopants and defects in Si and SiGe nano-scale CMOS devices
    Kim, Yonghyun
    2010
    Online Hochschulschrift
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Charge noise and spin in single-electron silicon CMOS quantum dots ; Bruit de charge et spin dans des boites quantiques CMOS à électron unique
    Spence, Cameron ; Institut Néel (NEEL) ; et al.
    In: https://theses.hal.science/tel-03566464 ; Mesoscopic Systems and Quantum Hall Effect [cond-mat.mes-hall]. Université Grenoble Alpes [2020-.], 2021. English. ⟨NNT : 2021GRALY054⟩, 2021
    Online Hochschulschrift
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Fully Electronic Generation and Detection of THz Picosecond Pulses and Their Applications
    Jamali, Babak ; Razavian, Sam ; et al.
    2022
    Online E-Book
    Wie komme ich dran?
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