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    Novel pathways for elimination of chlorine atoms from growing Si(100) surfaces in CVD reactors
    Hagino, Sho ; Yamaguchi, Katsunori ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 441 (2018-05-01), S. 773-779
    Online unknown
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    Structure and gas separation properties of ultra-smooth PE-CVD silicon organic coated composite membranes
    Wilski, Stefan ; Alizadeh, Philipp ; et al.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 421 (2021-09-01), S. 127338-127338
    Online unknown
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    Growth of large-scale heteroepitaxial 3C-SiC films and nanosheets on silicon substrates by microwave plasma enhanced CVD at higher powers
    Yang, Bing ; Jiang, Xin ; et al.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 299 (2016-08-01), S. 96-103
    Online unknown
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    A step-by-step experiment of 3C-SiC hetero-epitaxial growth on 4H-SiC by CVD
    Jia, Renxu ; Lin, Hao-Hsiung ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 357 (2015-12-01), S. 985-993
    Online unknown
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    Insertion behavior of sodium and potassium ions into thin CVD-SiOxlayers by means of a triangular voltage sweep method
    Hutter, Herbert ; Pobegen, G. ; et al.
    In: Surface and Interface Analysis, Jg. 48 (2016-03-28), S. 636-649
    Online unknown
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    Growth of a Carbon Nanotube Forest on Silicon using Remote Plasma CVD
    Obraztsov, Alexander N. ; Shvets, Petr V. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 19 (2013-10-30), S. 332-337
    Online unknown
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    Full CVD Reel-To-Reel Process to Obtain Perfectly Oriented Silicon Films on Metal Tapes with Oxide Buffer Layers**
    Tschepikov, Vsevolod ; Kaul, Andrey R. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2014-07-25), S. 356-363
    Online unknown
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    DLI-CVD of TiO2–Cu antibacterial thin films: Growth and characterization
    Bedel, Laurent ; Renaud, François ; et al.
    2009
    Online unknown
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    Catalyst-free Growth Mechanism and Structure of Graphene-like Nanosheets Formed by Hot-Filament CVD
    Cheng, Qijin ; Dong, Guobo ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2014-06-30), S. 345-351
    Online unknown
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    Preparation of diamond films with controllable surface morphology, orientation and quality in an overmoded microwave plasma CVD chamber
    Jun, Weng ; Liu, F. ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 276 (2013-07-01), S. 529-534
    Online unknown
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    Thermodynamical analysis of Al and Si halide gaseous precursors in CVD. Review and approximation for deposition at moderate temperature in FBR-CVD process
    Perez, Francisco ; Sánchez, L. ; et al.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 201 (2006-12-01), S. 2475-2483
    Online unknown
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    LP-CVD Silicon-Based Film Formation in Submicrometer Trenches in Industrial Equipment: Experiments and Simulation
    Cot, Didier ; Durand, Jean ; et al.
    2002
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    Modeling of Silicon CVD into Agglomerates of Sub-micrometer-size Particles in a Fluidized Bed
    Reuge, Nicolas ; Caussat, Brigitte ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 17 (2011-12-01), S. 305-311
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    Silicon-Included Graphite Films Prepared by Thermally Induced CVD with a (C6F5)4Si Precursor
    Zelenina, Ludmila N. ; Bakovets, V. V. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 18 (2012-05-07), S. 166-172
    Online unknown
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    Conformality Investigation of Titanium Dioxide Thin Films on 3-D Micrometer- and Nanometer-scale Features by Pulsed-Pressure Metal-organic CVD
    Siriwongrungson, Vilailuck ; Alkaisi, Maan M. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 17 (2011-12-01), S. 327-336
    Online unknown
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Boron Instability in CVD-Produced Borophosphosilica Films
    Sokolov, Yuri V.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 17 (2011-03-01), S. 22-29
    Online unknown
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Silicon CVD deposition for low cost applications in photovoltaics
    Schmich, Evelyn ; Schillinger, Norbert ; et al.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 201 (2007-09-01), S. 9325-9329
    Online unknown
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Phosphane copper(I) complexes as CVD precursors
    Waechtler, Thomas ; Gessner, Thomas ; et al.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 201 (2007-09-01), S. 9089-9094
    Online unknown
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    CVD in a Fluidized Bed Reactor: A Method of Developing Coatings at Temperatures below 600 °C
    Bolívar, Francisco ; Sánchez, Luis ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 13 (2007-09-01), S. 465-473
    Online unknown
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Hf1−xSixOy dielectric films deposited by UV-photo-induced chemical vapour deposition (UV-CVD)
    Wu, Jie ; Zhang, J.-Y. ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 253 (2007-07-01), S. 7869-7873
    Online unknown
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